氟化镉蒸发材料（CdF）

产品详情（Detailed Description）

氟化镉蒸发材料采用高纯镉源，通过受控氟化反应与真空合成工艺制备形成稳定的 Cd–F 化合物相（CdF₂）。在原料提纯、粉体处理、致密化成型与封装的全过程中，严格控制水分、氧及痕量金属杂质含量，以确保蒸发过程中化学计量稳定、蒸发速率可控、薄膜性能具有良好一致性。

• 纯度等级：99.9%（3N）–99.99%（4N）

• 材料体系：Cd–F（氟化镉，CdF₂）

• 光学特性：可见光–近紫外区良好透过性

• 晶体结构：稳定的离子晶体结构

• 成膜优势：单源蒸发，膜层均匀、界面清晰

• 供货形态：颗粒 / 块状 / 压片 / 定制形态，适配钼舟、钨舟及电子束坩埚

通过优化蒸发功率、速率与基底温度，可制备致密、低散射、附着力良好且应力可控的 CdF 薄膜。

应用领域（Applications）

• 光学镀膜：低折射率或功能光学薄膜

• 紫外与可见光功能膜层：光谱调控与研究用途

• Ⅱ–Ⅵ 族化合物材料研究：功能薄膜与界面研究

• 多层光学膜系设计：与 MgF₂、CaF₂、AlF₃ 等材料配合

• 科研与实验室应用：氟化物薄膜与材料物性研究

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

Q1：CdF 适合哪种沉积方式？
A：适用于真空热蒸发与电子束蒸发，科研应用中两者均可。

Q2：CdF 的核心材料优势是什么？
A：稳定的离子晶体结构与可控的光学性能。

Q3：是否主要用于科研用途？
A：是的，主要应用于光学与Ⅱ–Ⅵ 族材料相关研究。

Q4：是否适合多层光学膜结构？
A：适合，常作为低折射率或功能调控层使用。

Q5：膜层附着力如何？
A：在玻璃、石英、Si 等常见基底上表现稳定。

Q6：CdF 是否容易吸湿？
A：吸湿性相对较低，但仍建议干燥环境操作并真空密封保存。

Q7：蒸发过程是否稳定？
A：在高真空与合理功率控制条件下，蒸发过程平稳、重复性好。

Q8：使用时需要注意哪些事项？
A：镉化合物应在符合实验室安全规范条件下操作。

包装与交付（Packaging）

所有氟化镉蒸发材料在出厂前均经过成分与外观检测，并贴附唯一可追溯标签。产品采用真空密封、防潮、防震缓冲及出口级包装方案，确保运输与储存过程中材料的高纯度、成分稳定性与使用可靠性。

结论（Conclusion）

氟化镉蒸发材料（CdF）凭借其稳定的晶体结构、良好的光学透明性以及可控的蒸发与成膜行为，在科研导向型光学薄膜与功能材料研究中具有稳定应用价值。对于涉及光学调控、Ⅱ–Ⅵ 族材料或氟化物薄膜研究的真空蒸发应用，CdF 是一类研究指向明确、工艺可控性良好的专业蒸发材料选择。

如需了解更多技术参数或获取报价，请联系：sales@keyuematerials.com