氟化锶靶材(SrF)

产品简介(Introduction)

氟化锶(Strontium Fluoride,SrF₂)是一种典型的碱土金属氟化物材料,具有优异的化学稳定性、宽禁带、高光学透明性以及良好的介电性能。SrF₂ 在紫外(UV)、可见光(VIS)及红外(IR)波段均具有良好的透过率,是光学镀膜、激光系统、红外窗口及功能介电薄膜中的重要材料。

作为溅射靶材,氟化锶具有稳定的溅射行为、低颗粒生成和良好的膜层均匀性,适用于 RF 磁控溅射及离子束沉积(IBD)工艺,广泛应用于科研级和工业级光学与电子薄膜制备。


产品详情(Detailed Description)

氟化锶靶材通常采用高纯原料,通过真空烧结(Vacuum Sintering)、热压(HP)或热等静压(HIP)工艺制备,以获得高致密度和稳定的化合物结构。

化学式: SrF₂
纯度: 99.9%–99.999%(3N–5N,可定制)
密度: ≥95% 理论密度
尺寸: Ø25–Ø300 mm(支持矩形靶定制)
厚度: 3–6 mm(可定制薄靶或加厚靶)
制造工艺: Vacuum Sintering / HP / HIP
背板选项: Cu / Ti / Mo(支持铟焊)
外观颜色: 白色或浅灰白色致密陶瓷体

高致密 SrF₂ 靶材可显著降低溅射颗粒,提升薄膜的光学与电学一致性。


应用领域(Applications)

● 光学镀膜(Optical Coatings)

  • 紫外与红外光学窗口

  • 高透过率增透膜(AR Coatings)

  • 激光光学系统保护层

  • 多层干涉滤光片

● 激光与红外系统

  • 高功率激光器光学元件

  • 红外探测与成像系统

  • 高能量密度光学薄膜

● 半导体与电子薄膜

  • 介电绝缘层

  • 高电阻薄膜

  • MEMS 与传感器功能层

● 科研与功能材料研究

  • 氟化物薄膜结构研究

  • 宽禁带材料与介电薄膜研究

  • 与 MgF₂、CaF₂、YF₃ 等氟化物的多层膜设计


技术参数(Technical Parameters)

参数 典型范围 说明
纯度 99.9%–99.999% 提升薄膜透明度与稳定性
密度 ≥95% TD 高致密性减少颗粒
尺寸 Ø25–Ø300 mm 适配主流镀膜设备
厚度 3–6 mm 可定制
熔点 ~1477°C 适用于高温沉积工艺
折射率 ~1.44(λ=550 nm) 光学薄膜设计友好
背板 Cu / Ti / Mo 改善散热与机械稳定性

相关材料对比(Comparison with Related Materials)

材料 主要特点 典型应用
SrF₂ 宽光谱透明、化学稳定 UV/IR 光学薄膜
MgF₂ UV 透过率极高 紫外增透膜
CaF₂ IR 透明性优异 红外窗口
YF₃ 高激光损伤阈值 高功率光学系统
LaF₃ 光学与激光应用广泛 激光与光通信

常见问题(FAQ)

问题 答案
SrF₂ 靶材适合 RF 还是 DC? 属于绝缘材料,通常使用 RF 溅射。
SrF₂ 是否吸湿? 轻微吸湿,建议真空密封保存。
可否提供 5N 高纯靶材? 可以,支持定制。
薄膜是否透明? 是,可获得高透明 UV–IR 薄膜。
是否适合多层光学膜? 非常适合,常用于 AR / HR 结构。
能否与其他氟化物共溅射? 可以,与 MgF₂、YF₃、CaF₂ 等兼容。

包装与交付(Packaging)

  • 双层真空密封包装

  • 干燥剂防潮保护

  • 防震泡棉固定

  • 出口级木箱运输

  • 附 COA 与批次追溯编号


结论(Conclusion)

氟化锶靶材(SrF₂)凭借其优异的光学透明性、化学稳定性与良好的薄膜沉积性能,在光学镀膜、激光系统、红外器件和半导体薄膜中具有重要应用价值。高纯、高致密 SrF₂ 靶材能够显著提升薄膜质量,是科研与工业镀膜领域的可靠选择。

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