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氟化锰靶材（MnFₓ）是一类重要的过渡金属氟化物材料，其中 MnF₂（氟化亚锰） 应用最为广泛。MnF₂ 具有 良好的化学稳定性、优异的绝缘性能、较低的折射率以及稳定的磁学和光学特性，在光学镀膜、磁光薄膜、电子介质层及科研级功能薄膜中具有重要应用价值。
作为溅射靶材，MnF₂ 可在 RF 磁控溅射或离子束沉积条件下形成成分均匀、表面平整、缺陷密度低的氟化物薄膜，适合对薄膜纯度和稳定性要求较高的应用场景。
● 化学式： MnF₂（可按需求提供 MnFₓ）
● 纯度： 99.9% – 99.99%
● 外观： 乳白色至浅灰白色陶瓷质感
● 尺寸范围： Ø25–300 mm（支持方形、矩形、异形定制）
● 厚度： 2–6 mm（或按设备要求定制）
● 致密度： ≥95% 理论密度
● 制造工艺：
– 高纯原料固相反应合成
– 冷等静压（CIP）成型
– 惰性气氛或真空烧结
– 精密磨削、倒角与清洗
● 背板结构： Cu / Ti / 铟焊（Indium Bonding）
● 适用工艺： RF 磁控溅射（推荐）、离子束沉积、PVD 光学系统
MnF₂ 属于典型陶瓷型靶材，配合背板使用可显著提升溅射过程中的热稳定性与机械可靠性。
● 光学镀膜（Optical Coatings）
用于低折射率功能膜、干涉滤光片及多层光学结构。
● 磁光与功能薄膜（Magneto-Optical Films）
MnF₂ 具有特定磁学特性，可用于科研级磁光薄膜研究。
● 电子介质层（Dielectric Layers）
用于电子器件中的绝缘层和功能介质薄膜。
● 红外与紫外光学薄膜
适用于调控紫外–可见–红外波段的透过与反射特性。
● 科研与新材料研究
用于氟化物薄膜、磁性材料及界面工程相关研究。
| 参数 | 范围 / 典型值 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9%–99.99% | 纯度越高，薄膜缺陷越少 |
| 直径 | Ø25–300 mm | 适配主流溅射与光学设备 |
| 厚度 | 2–6 mm | 可按沉积寿命定制 |
| 致密度 | ≥95% | 提升薄膜致密性与均匀性 |
| 相态 | MnF₂ / MnFₓ | 可按需求定制 |
| 背板 | Cu / Ti / In bonding | 改善散热、防止靶材开裂 |
| 材料 | 特点 | 典型应用 |
|---|---|---|
| MnF₂ | 稳定性好、低折射率 | 光学/介质薄膜 |
| ZnF₂ | 高透光率 | 光学窗口、AR 膜 |
| MgF₂ | 超低折射率 | 光学镀膜主流材料 |
| CaF₂ | 宽光谱透过 | 红外光学窗口 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| MnF₂ 靶材适合 DC 还是 RF？ | 推荐 RF 溅射，更稳定。 |
| MnF₂ 是否容易吸潮？ | 稳定性较好，建议真空密封保存。 |
| 薄膜光学性能如何？ | 可获得低吸收、均匀的光学薄膜。 |
| 是否支持小尺寸科研样品？ | 可提供 ≤1 英寸靶材。 |
| 是否建议使用背板？ | 建议中高功率工况下使用背板。 |
● 单片真空密封包装
● 防静电袋 + 防震泡棉
● 出口级木箱
● 提供纯度检测、尺寸检测与批次追溯信息
氟化锰靶材（MnF₂ / MnFₓ）凭借其稳定的光学、电学与化学性能，在光学镀膜、电子介质薄膜及科研领域中具有良好的应用前景。苏州科跃材料科技有限公司可为您提供 高纯度、高致密度、全规格定制的氟化锰靶材，满足从基础研究到产业化薄膜沉积的多样化需求。
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