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氟化锡靶材（SnFₓ）是一类重要的无机氟化物功能材料，在光学镀膜、电子薄膜及功能介质层领域具有独特应用价值。常见化学形态包括 SnF₂（氟化亚锡） 及特定应用下的 SnFₓ 体系。其薄膜具有 良好的化学稳定性、较低折射率、优异的绝缘性能及良好的界面兼容性。
在磁控溅射或离子束沉积过程中，高纯度 SnF₂ 靶材能够形成均匀、低缺陷的氟化物薄膜，适用于光学器件、电子封装及科研级功能薄膜制备。
● 化学式： SnF₂（可按需求定制 SnFₓ）
● 纯度： 99.9% – 99.99%
● 外观： 乳白色至浅灰白色陶瓷质感
● 尺寸范围： Ø25–300 mm（支持方形、矩形、异形）
● 厚度： 2–6 mm（可定制）
● 致密度： ≥95% 理论密度
● 制造工艺：
– 高纯原料固相合成
– 冷等静压（CIP）成型
– 真空/惰性气氛烧结
– 精密磨削、倒角、清洗
● 背板结构： Cu / Ti / 铟焊（Indium Bonding）
● 适用工艺： RF 磁控溅射（推荐）、离子束沉积、PVD 光学系统
SnF₂ 属于典型陶瓷型靶材，建议配合背板使用以提升散热性能和机械稳定性。
● 光学镀膜（Optical Coatings）
用于低折射率膜层、功能性光学薄膜及多层干涉结构。
● 电子绝缘层（Dielectric Layers）
SnF₂ 薄膜具有良好的电绝缘性能，适用于电子器件介质层。
● 红外与紫外光学薄膜
用于调节光谱透过率与反射特性。
● 功能保护膜（Protective Films）
具备良好的化学稳定性和耐腐蚀性。
● 科研与新材料研究
用于氟化物薄膜、电化学及界面工程相关研究。
| 参数 | 范围 / 典型值 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9%–99.99% | 降低薄膜杂质与吸收 |
| 直径 | Ø25–300 mm | 适配主流溅射系统 |
| 厚度 | 2–6 mm | 可按溅射寿命设计 |
| 致密度 | ≥95% | 提升膜层致密性 |
| 相态 | SnF₂ / SnFₓ | 支持成分定制 |
| 背板 | Cu / Ti / In bonding | 改善散热与抗裂性 |
| 材料 | 特点 | 典型应用 |
|---|---|---|
| SnF₂ | 稳定性好、低折射率 | 光学与介质薄膜 |
| ZnF₂ | 高透光率 | AR 膜、光学窗口 |
| MgF₂ | 超低折射率 | 光学镀膜主流材料 |
| CaF₂ | 宽光谱透过 | 红外窗口 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| SnF₂ 靶材适合 DC 还是 RF？ | 推荐 RF 溅射，更稳定。 |
| SnF₂ 是否容易吸潮？ | 稍有吸湿性，建议真空密封保存。 |
| 薄膜光学性能稳定吗？ | 高纯靶材可获得低吸收稳定薄膜。 |
| 是否支持小尺寸样品？ | 可提供 ≤1 英寸科研靶材。 |
| 是否必须使用背板？ | 建议用于中高功率溅射。 |
● 单片真空密封包装
● 防静电袋 + 防震泡棉
● 出口级木箱
● 提供纯度检测、尺寸检测与批次追溯信息
氟化锡靶材（SnF₂ / SnFₓ）凭借其稳定的光学与介电性能，在光学镀膜、电子薄膜及科研领域中具有良好应用前景。苏州科跃材料科技有限公司可为您提供 高纯度、高致密度、全规格定制的氟化锡靶材，满足从实验室到产业化的不同需求。
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