氟化铬蒸发材料（CrF）

产品详情（Detailed Description）

氟化铬蒸发材料采用高纯铬原料，通过受控氟化反应与真空合成工艺制备，形成稳定的 Cr–F 化合物相（CrF₃）。在原料纯化、粉体处理、致密化成型及封装的全过程中，严格控制水分、氧及痕量杂质含量，以确保蒸发过程中化学计量稳定、蒸发行为可控以及薄膜性能具有良好重复性。

• 纯度等级：99.9%（3N）–99.99%（4N）

• 材料体系：Cr–F（过渡金属氟化物，CrF₃）

• 光学特性：可见光区良好透过性，折射率较低

• 化学特性：化学稳定性高，耐腐蚀性好

• 成膜优势：单源蒸发，膜层成分均匀、结构稳定

• 供货形态：颗粒、块状、压片或定制形态，适配钼舟、钨舟及电子束坩埚

通过合理控制蒸发速率、功率曲线与基底温度，可制备致密、低散射、附着力良好且应力可控的 CrF 薄膜。

应用领域（Applications）

氟化铬蒸发材料主要应用于以下领域：

• 功能光学薄膜：低折射率或光学调控层

• 耐化学与防护薄膜研究：氟化物防护涂层

• 电子与界面工程薄膜：功能中间层与界面调控

• 多层光学膜系设计：与 MgF₂、AlF₃、YF₃ 等材料组合

• 科研与实验室应用：过渡金属氟化物薄膜与物性研究

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

Q1：CrF 蒸发材料适合哪种沉积方式？
A：适用于真空热蒸发与电子束蒸发，科研与功能薄膜中电子束蒸发较为常见。

Q2：CrF 的主要材料优势是什么？
A：良好的化学稳定性与可控的薄膜成分。

Q3：是否主要用于科研用途？
A：是的，主要用于功能薄膜与界面工程研究。

Q4：是否适合多层膜系结构？
A：适合，常作为功能或过渡层使用。

Q5：膜层附着力如何？
A：在玻璃、石英、Si 等常见基底上具有良好附着性能。

Q6：CrF 是否容易吸湿？
A：吸湿性较低，但仍建议真空密封保存。

Q7：蒸发过程是否稳定？
A：在高真空与合理功率控制条件下，蒸发过程稳定、重复性良好。

Q8：科研中常见研究方向有哪些？
A：氟化物防护薄膜、界面工程与过渡金属氟化物研究。

包装与交付（Packaging）

所有氟化铬蒸发材料在出厂前均经过成分与外观检测，并贴附唯一可追溯标签。产品采用真空密封、防潮、防震缓冲与出口级包装方案，确保运输与储存过程中材料的高纯度、成分稳定性与使用可靠性。

结论（Conclusion）

氟化铬蒸发材料（CrF）凭借其稳定的过渡金属氟化物结构、良好的化学稳定性以及可控的成膜行为，在功能薄膜与科研级薄膜制备中具有明确应用价值。对于涉及界面工程、功能光学或防护薄膜研究的真空蒸发应用，CrF 是一类性能边界清晰、工艺可控性良好的专业蒸发材料选择。

如需了解更多技术参数或获取报价，请联系：sales@keyuematerials.com