氟化铝蒸发材料（AlF）

产品详情（Detailed Description）

氟化铝蒸发材料采用高纯铝源，经受控氟化反应与真空合成工艺制备形成稳定的 Al–F 化合物相（AlF₃）。在原料纯化、粉体处理、致密化成型与封装的全过程中，严格控制水分、氧及痕量杂质含量，确保蒸发过程中化学计量稳定、蒸发行为可控、薄膜性能具有良好重复性。

• 纯度等级：99.9%（3N）–99.99%（4N）

• 材料体系：Al–F（氟化铝，AlF₃）

• 光学特性：低折射率，高透过率（紫外–可见光区）

• 化学稳定性：耐腐蚀、环境稳定性优良

• 成膜优势：单源蒸发，膜层致密均匀、应力可控

• 供货形态：颗粒 / 块状 / 压片 / 定制形态，适配钼舟、钨舟及电子束坩埚

通过合理控制蒸发速率、功率曲线与基底温度，可获得低散射、附着力良好且长期稳定的 AlF 薄膜。

应用领域（Applications）

• 光学镀膜：低折射率层、增透膜

• 紫外光学器件：UV 透过膜、紫外光学组件涂层

• 功能光学薄膜：光谱调控与保护层

• 多层光学膜系设计：与 MgF₂、LiF、CaF₂、YF₃ 等材料组合

• 科研与实验室应用：金属氟化物薄膜与光学性质研究

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

Q1：AlF 适合哪种沉积方式？
A：适用于真空热蒸发与电子束蒸发，电子束蒸发更利于厚膜与高纯薄膜制备。

Q2：AlF 的主要材料优势是什么？
A：低折射率、优异的紫外稳定性及良好的化学惰性。

Q3：是否主要用于光学镀膜？
A：是的，广泛用于紫外与可见光学膜系。

Q4：是否适合多层光学膜结构？
A：非常适合，常作为低折射率层与其他氟化物组合。

Q5：膜层附着力如何？
A：在玻璃、石英、Si 等常见基底上具有良好附着性能。

Q6：AlF 是否容易吸湿？
A：吸湿性较低，但仍建议真空密封或干燥环境保存。

Q7：蒸发过程是否稳定？
A：在高真空与合理功率控制条件下，蒸发过程稳定、重复性良好。

Q8：科研中常见研究方向有哪些？
A：紫外光学薄膜、低折射率膜系与金属氟化物材料研究。

包装与交付（Packaging）

所有氟化铝蒸发材料在出厂前均经过成分与外观检测，并贴附唯一可追溯标签。产品采用真空密封、防潮、防震缓冲与出口级包装方案，确保运输与储存过程中材料的高纯度、成分稳定性与使用可靠性。

结论（Conclusion）

氟化铝蒸发材料（AlF）凭借其稳定的化学结构、良好的光学透明性及优异的紫外稳定性能，在光学镀膜与功能薄膜领域中长期保持重要地位。对于需要制备低损耗紫外或可见光学薄膜的真空蒸发应用，AlF 是一类工程成熟度高、可靠性强的专业蒸发材料选择。

如需了解更多技术参数或获取报价，请联系：sales@keyuematerials.com