氟化铒靶材（ErF₃ / ErFₓ）

产品简介（Introduction）

氟化铒靶材（ErFₓ）是一类重要的稀土氟化物功能材料，其中 ErF₃（氟化铒） 应用最为广泛。ErF₃ 具有 优异的化学稳定性、低声子能量、高光学透明性以及良好的绝缘性能，在光学镀膜、红外器件、激光与稀土掺杂薄膜领域具有不可替代的地位。

作为溅射靶材，ErF₃ 可用于制备高纯度、低缺陷的稀土氟化物薄膜，尤其适合对光学损耗、杂质控制和薄膜均匀性要求较高的应用场景。

产品详情（Detailed Description）

● 化学式： ErF₃（可按需求提供 ErFₓ）
● 纯度： 99.9% – 99.99%
● 外观： 乳白色至浅灰白色陶瓷质感
● 尺寸范围： Ø25–300 mm（支持方形、矩形、异形定制）
● 厚度： 2–6 mm（或按设备要求定制）
● 致密度： ≥95% 理论密度
● 制造工艺：
– 高纯稀土原料氟化合成
– 冷等静压（CIP）成型
– 真空或惰性气氛烧结
– 精密磨削、倒角、超声清洗
● 背板结构： Cu / Ti / 铟焊（Indium Bonding）
● 适用工艺： RF 磁控溅射（推荐）、离子束沉积、PVD 光学系统

ErF₃ 属于典型陶瓷型稀土靶材，配合背板使用有助于提升热稳定性并降低溅射应力。

应用领域（Applications）

● 光学镀膜（Optical Coatings）
用于低折射率膜层、多层干涉膜、稀土功能光学薄膜。

● 红外与激光器件（IR & Laser Films）
ErF₃ 薄膜在红外波段具有低吸收特性，适用于激光窗口与保护膜。

● 稀土掺杂薄膜（Rare-Earth Doped Films）
作为铒源，用于 Er 掺杂光学薄膜、波导和功能层结构。

● 电子介质层（Dielectric Layers）
用于电子器件中的绝缘与功能介质薄膜。

● 科研与新材料研究
广泛用于稀土氟化物、光学功能材料及界面工程研究。

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

● 单片真空密封包装
● 防静电袋 + 防震泡棉
● 出口级木箱
● 提供纯度检测、尺寸检测与批次追溯信息

结论（Conclusion）

氟化铒靶材（ErF₃ / ErFₓ）凭借其优异的光学性能和稀土功能特性，在光学镀膜、红外器件、激光与稀土掺杂薄膜领域中占据重要地位。苏州科跃材料科技有限公司可为您提供 高纯度、高致密度、全规格定制的氟化铒靶材，满足科研与产业化薄膜沉积需求。

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