氟化铒蒸发材料（ErF）

产品详情（Detailed Description）

氟化铒蒸发材料以高纯铒源为原料，通过受控氟化反应与真空合成工艺制备形成稳定的 Er–F 化合物相（ErF₃）。在合成、粉体处理、成型与封装的全过程中严格控制水分、氧与痕量杂质，确保蒸发过程中化学计量稳定、蒸发行为可控、薄膜性能一致性高。

• 纯度等级：99.9%（3N）–99.99%（4N）

• 材料体系：Er–F（稀土氟化物，ErF₃）

• 光学特性：可见光–近红外区高透过率

• 功能特性：Er³⁺ 近红外发光与光谱调控潜力

• 成膜优势：单源蒸发，成分均匀、膜层稳定

• 供货形态：颗粒 / 块状 / 压片 / 定制形态，适配钼舟、钨舟及电子束坩埚

通过合理控制蒸发速率、功率与基底温度，可获得致密、低散射、附着力良好且应力可控的 ErF 薄膜。

应用领域（Applications）

• 光学镀膜：低折射率光学功能层

• 近红外与光通信材料研究：Er³⁺ 发光相关薄膜

• 功能光学薄膜：光谱调控与能级研究

• 多层光学膜系：与 MgF₂、YF₃、YbF₃、AlF₃ 等材料配合

• 科研与实验室应用：稀土氟化物薄膜结构与光学研究

技术参数（Technical Parameters）

常见问题（FAQ）

Q1：ErF 适合哪种沉积方式？
A：适用于真空热蒸发与电子束蒸发，电子束蒸发更利于厚膜与高纯薄膜。

Q2：ErF 的核心优势是什么？
A：稳定的稀土氟化物结构及铒离子在近红外波段的功能特性。

Q3：主要应用于哪些领域？
A：光学薄膜、近红外功能材料及光通信相关科研。

Q4：是否适合多层膜系？
A：适合，常作为低折射率或功能调控层使用。

Q5：膜层附着力如何？
A：在玻璃、石英、Si 等常见基底上具有良好附着性能。

Q6：材料是否吸湿？
A：吸湿性较低，但仍建议真空密封或干燥条件保存。

Q7：蒸发过程是否稳定？
A：在高真空与合理功率控制下，蒸发过程稳定、重复性好。

Q8：科研中常见研究方向？
A：Er³⁺ 发光薄膜、近红外光学与稀土功能材料研究。

包装与交付（Packaging）

产品出厂前经过成分与外观检测并贴附可追溯标签，采用真空密封、防潮、防震缓冲与出口级包装，确保运输与储存过程中的高纯度与使用可靠性。

结论（Conclusion）

氟化铒蒸发材料（ErF）凭借其稳定的稀土氟化物结构、良好的光学透明性以及近红外功能潜力，在光学与光通信相关的科研级薄膜制备中具有重要价值。对于需要开展稀土功能薄膜或近红外光学研究的真空蒸发应用，ErF 是一类性能明确、工艺可控性优良的专业蒸发材料选择。

如需了解更多技术参数或获取报价，请联系：sales@keyuematerials.com