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氟化铈靶材（CeFₓ）是一类重要的稀土氟化物功能材料，其中 CeF₃（氟化铈） 应用最为广泛。CeF₃ 具有 优异的化学稳定性、良好的光学透明性、低声子能量以及良好的绝缘性能，在光学镀膜、闪烁体材料、紫外-可见-红外光学器件及稀土功能薄膜领域具有重要地位。
作为溅射靶材，高纯度、高致密度的 CeF₃ 可用于制备成分均匀、光学损耗低、附着力良好的氟化物薄膜，适合对杂质控制和光学性能要求较高的科研与产业化应用。
● 化学式： CeF₃（可按需求提供 CeFₓ）
● 纯度： 99.9% – 99.99%
● 外观： 乳白色至浅灰白色陶瓷质感
● 尺寸范围： Ø25–300 mm（支持方形、矩形、异形定制）
● 厚度： 2–6 mm（或按设备需求定制）
● 致密度： ≥95% 理论密度
● 制造工艺：
– 高纯稀土原料氟化合成
– 冷等静压（CIP）成型
– 真空或惰性气氛烧结
– 精密磨削、倒角与超声清洗
● 背板结构： Cu / Ti / 铟焊（Indium Bonding）
● 适用工艺： RF 磁控溅射（推荐）、离子束沉积、PVD 光学系统
CeF₃ 属于陶瓷型稀土靶材，建议在中高功率溅射条件下配合背板使用，以提升热稳定性和使用寿命。
● 光学镀膜（Optical Coatings）
用于低折射率介质膜、多层干涉膜及功能光学薄膜。
● 紫外-可见-红外光学器件
CeF₃ 在宽光谱范围内具有良好透过性能。
● 闪烁体与探测材料薄膜
Ce 基材料在辐射探测与闪烁体研究中应用广泛。
● 稀土功能薄膜（Rare-Earth Functional Films）
作为铈源，用于稀土掺杂光学与电子薄膜。
● 电子介质层（Dielectric Layers）
用于电子器件中的绝缘与功能介质薄膜。
● 科研与新材料研究
氟化物薄膜、稀土光学材料及界面工程研究。
| 参数 | 范围 / 典型值 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9%–99.99% | 降低薄膜光学损耗 |
| 直径 | Ø25–300 mm | 适配主流溅射系统 |
| 厚度 | 2–6 mm | 可按溅射寿命定制 |
| 致密度 | ≥95% | 提升薄膜致密性与稳定性 |
| 相态 | CeF₃ / CeFₓ | 支持成分定制 |
| 背板 | Cu / Ti / In bonding | 改善散热、防止开裂 |
| 材料 | 特点 | 典型应用 |
|---|---|---|
| CeF₃ | 宽光谱透过、稀土功能性强 | 光学/闪烁体薄膜 |
| LaF₃ | 折射率低 | 光学介质层 |
| YF₃ | 化学稳定性高 | 光学镀膜 |
| CeO₂ | 强氧化还原能力 | 抛光与功能涂层 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| CeF₃ 靶材适合 DC 还是 RF？ | 推荐 RF 溅射。 |
| CeF₃ 是否容易吸潮？ | 稳定性较好，建议真空密封保存。 |
| 薄膜光学损耗大吗？ | 使用高纯靶材可获得低吸收薄膜。 |
| 是否支持小尺寸科研靶材？ | 可提供 ≤1 英寸规格。 |
| 是否建议使用背板？ | 中高功率溅射强烈建议。 |
● 单片真空密封包装
● 防静电袋 + 防震泡棉
● 出口级木箱
● 提供纯度检测、尺寸检测与批次追溯信息
氟化铈靶材（CeF₃ / CeFₓ）凭借其优异的光学性能和稀土功能特性，在光学镀膜、闪烁体材料、稀土功能薄膜及科研领域中具有重要应用价值。苏州科跃材料科技有限公司可提供 高纯度、高致密度、全规格定制的氟化铈靶材，满足科研与产业化薄膜沉积需求。
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