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氟化钠蒸发材料采用高纯钠源与氟源，通过受控合成与纯化工艺制备形成稳定的 Na–F 化合物相。生产与封装全过程中严格控制水分与杂质含量，以确保蒸发过程中成分稳定、蒸发行为可预测、薄膜光学性能重复性良好。
纯度等级：99.9%（3N）–99.99%（4N）
材料体系：Na–F（单一氟化物）
光学特性：低折射率，高透光性（UV–可见光区）
化学特性：结构简单，化学计量稳定
成膜优势：单源蒸发，膜层成分一致性高
供货形态：颗粒、块状、压片或定制形态，适配钼舟、钨舟及电子束坩埚
通过控制蒸发速率与基底温度，可获得均匀致密、散射低、界面清晰的 NaF 薄膜。
光学镀膜：低折射率层、增透膜
紫外与可见光薄膜：光学调控与实验膜层
多层光学膜系设计：与 MgF₂、AlF₃、CaF₂ 等材料组合
科研与教学实验：氟化物薄膜与光学基础研究
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 材料体系 | Na–F（NaF） | 决定光学与化学稳定性 |
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 降低吸收与散射 |
| 折射率 | 较低 | 适合低折射率光学层 |
| 形态 | 颗粒 / 块状 / 压片 | 适配不同蒸发源 |
| 蒸发方式 | 热蒸发 / 电子束蒸发 | 兼容主流 PVD 系统 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| 氟化钠蒸发材料（NaF） | 结构简单、低折射率 | 光学功能膜 |
| 氟化镁（MgF₂） | 工艺成熟 | 增透膜 |
| 氟化铝（AlF₃） | 紫外稳定性好 | UV 光学膜 |
| 氟化钙（CaF₂） | 红外透过性优 | 光学窗口 |
Q1：NaF 适合哪种蒸发方式？
A：适用于真空热蒸发与电子束蒸发，热蒸发更为常见。
Q2：NaF 的主要优势是什么？
A：低折射率、良好的光学透明性以及成分单一、可控。
Q3：是否主要用于光学镀膜？
A：是的，常用于低折射率光学薄膜与科研实验。
Q4：NaF 是否容易吸湿？
A：具有一定吸湿性，建议真空密封或干燥环境保存。
Q5：膜层附着力如何？
A：在玻璃、石英等基底上具有良好附着性能。
Q6：是否适合多层膜系结构？
A：适合，常与其他氟化物材料组合使用。
Q7：蒸发过程是否稳定？
A：在高真空与合理功率控制下，蒸发过程稳定、重复性良好。
Q8：科研中常见研究方向有哪些？
A：低折射率光学薄膜、氟化物材料光学性质研究。
所有氟化钠蒸发材料在出厂前均经严格检测并贴附唯一追溯标签。产品采用真空密封、防潮、防震缓冲与出口级包装，确保运输与储存过程中材料的高纯度与使用可靠性。
氟化钠蒸发材料（NaF）凭借其低折射率、良好的光学透明性以及成分简单可控，在光学镀膜与科研薄膜制备中具有稳定应用价值。对于需要制备低损耗光学薄膜或开展基础氟化物材料研究的真空蒸发应用，NaF 是一类性能明确、工艺友好的专业蒸发材料选择。
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