氟化钕靶材（NdF）

产品简介（Introduction）

氟化钕（NdF）是一种重要的稀土氟化物材料，具有良好的光学透明性、化学稳定性和特定的折射特性。作为磁控溅射靶材，NdF 能沉积出高纯度、低缺陷、光学性能稳定的薄膜，广泛用于光学镀膜、红外窗口、防反射结构、电介质薄膜、激光系统与科研用途。

氟化钕薄膜的核心优势包括：

• 优异的紫外—红外透过率

• 低折射率、表面质量稳定

• 高激光损伤阈值，适合光学系统

• 良好的热稳定性及化学惰性

在高端光学器件和电子器件中，NdF 是必不可少的薄膜材料之一。

产品详情（Detailed Description）

氟化钕靶材通常采用 CIP 等静压成形 + 真空/惰性气氛烧结 工艺制备，以确保结构致密、纯度高、无裂纹，并保持良好的溅射性能。

可提供以下标准配置：

• 纯度：99.9%（3N）– 99.99%（4N）

• 尺寸：直径 25–300 mm（常规 2″、3″、4″ 常备）

• 厚度：3–6 mm，可定制更厚/更薄

• 密度：95–99% 理论密度（TD）

• 形貌：高致密陶瓷体，无孔洞、无裂纹

• 形状：圆靶、方靶、阶梯靶、复合靶

• 背板可选：Cu / Ti / Indium 焊接

工艺优势

• 化学计量稳定：膜层成分均匀，折射率一致性高

• 颗粒率低：减少光学膜层中的散射点

• 力学结构稳固：不易开裂、脱落

• 溅射速率可控：适合批量稳定生产

应用领域（Applications）

氟化钕靶材广泛用于光学、电介质与高端薄膜工程中，包括：

1. 光学镀膜（Optical Coatings）

• 低折射率薄膜

• 多层干涉膜结构

• AR 防反射膜

• 光学显示膜层

• 紫外/可见/红外窗口层

2. 激光与光电系统（Laser & Optoelectronics）

• 激光器腔镜镀膜

• 高功率激光反射/透射结构

• 稳定化光学界面层

3. 电介质薄膜（Dielectric Films）

• 多层电介质结构

• 电学绝缘保护膜

• 微电子封装

4. 科研领域（Scientific Research）

• 稀土光学材料实验

• 掺杂光学薄膜研究

• 量子光学器件镀膜

• 光学组件寿命提升研究

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

• 真空密封包装

• 干燥剂防潮

• 防震泡沫固定

• 出口级木箱（适合空运/快递）

• 提供 CoA、检测报告与唯一追踪编号

结论（Conclusion）

氟化钕靶材（NdF）具有优异的光学透明性、低折射率、化学稳定性及良好的介电性能，是光学镀膜、激光系统、薄膜电子与科研领域的重要功能材料。经过高致密烧结工艺的 NdF 靶材可提供稳定、均匀、低缺陷薄膜，是高端光电器件制造的可靠选择。

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