氟化钆蒸发材料（GdF）

产品详情（Detailed Description）

氟化钆蒸发材料以高纯钆金属或钆化合物为原料，通过受控氟化反应与真空合成工艺制备形成稳定的 Gd–F 化合物相（GdF₃）。在原料纯化、粉体处理、致密化成型及封装全过程中，严格控制氧、水分与痕量杂质含量，以确保蒸发过程中化学计量稳定、蒸发行为可控、薄膜性能具有高度重复性。

• 纯度等级：99.9%（3N）–99.99%（4N）

• 材料体系：Gd–F（稀土氟化物，GdF₃）

• 光学特性：可见光–近红外区良好透过率

• 功能特性：顺磁特性明显，适用于磁学与磁光研究

• 成膜优势：单源蒸发，膜层成分均匀、稳定性高

• 供货形态：颗粒、块状、压片或定制形态，适配钼舟、钨舟及电子束坩埚

通过合理控制蒸发速率、功率曲线与基底温度，可制备致密、低散射、附着力良好且应力可控的 GdF 薄膜。

应用领域（Applications）

氟化钆蒸发材料主要应用于以下领域：

• 光学与功能薄膜：低折射率光学功能层

• 磁学与磁光薄膜：顺磁薄膜、磁光效应研究

• 稀土功能材料研究：能级结构、磁学与光谱特性分析

• 多层光学膜系设计：与 MgF₂、YF₃、SmF₃、AlF₃ 等材料组合

• 科研与实验室应用：稀土氟化物薄膜与物性研究

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

Q1：GdF 蒸发材料适合哪种沉积方式？
A：适用于真空热蒸发与电子束蒸发，电子束蒸发更利于厚膜与高纯薄膜制备。

Q2：GdF 的主要材料优势是什么？
A：稳定的稀土氟化物结构与显著的顺磁特性。

Q3：是否主要用于科研用途？
A：是的，广泛应用于磁学、磁光及稀土功能薄膜研究。

Q4：是否适合多层光学膜结构？
A：非常适合，常作为低折射率或功能调控层使用。

Q5：膜层附着力如何？
A：在玻璃、石英、Si 等常见基底上具有良好附着性能。

Q6：GdF 是否容易吸湿？
A：吸湿性相对较低，但仍建议真空密封或干燥环境保存。

Q7：蒸发过程是否稳定？
A：在高真空与合理功率控制条件下，蒸发过程稳定、重复性良好。

Q8：科研中常见研究方向有哪些？
A：顺磁薄膜、磁光效应、稀土氟化物光学与磁学研究。

包装与交付（Packaging）

所有氟化钆蒸发材料在出厂前均经过成分与外观检测，并贴附唯一可追溯标签。产品采用真空密封、防潮、防震缓冲及出口级包装方案，确保运输与储存过程中材料的高纯度、成分稳定性与使用可靠性。

结论（Conclusion）

氟化钆蒸发材料（GdF）凭借其稳定的稀土氟化物结构、良好的光学透明性以及突出的磁学功能特性，在光学与磁学相关的科研级薄膜制备中占据重要位置。对于涉及磁学、磁光或稀土功能薄膜研究的真空蒸发应用，GdF 是一类研究导向明确、工艺可控性优良的专业蒸发材料选择。

如需了解更多技术参数或获取报价，请联系：sales@keyuematerials.com