二氧化钛 TiO₂ 基片

产品简介（Introduction）

二氧化钛（TiO₂）基片是一种广泛应用于功能氧化物外延、生物材料、光电器件及催化研究领域的重要单晶衬底材料。其优异的光学性能、化学稳定性与高折射率特性，使其在光学镀膜、透明导电薄膜及界面物理研究中具有重要地位。

TiO₂ 通常以金红石（Rutile）结构存在，具备良好的晶格匹配能力和高温稳定性，是氧化物薄膜沉积及新型光电材料开发的关键基础材料之一。

产品详情（Detailed Description）

TiO₂ 基片采用高纯原料，通过精密单晶生长工艺（如浮区法或提拉法）制备，随后进行精密切割、研磨与化学机械抛光（CMP），确保表面达到原子级平整度。

典型技术规格包括：

• 晶体结构：Rutile（常见）

• 晶向：(100)、(110)、(001)

• 尺寸：5×5 mm、10×10 mm、φ10 mm、φ20 mm 等

• 厚度：0.5 mm – 1.0 mm

• 表面粗糙度：Ra < 0.5 nm

• 纯度：99.9% – 99.99%

参数对性能的影响

• 晶向选择：影响外延薄膜生长取向与晶格匹配；

• 表面平整度：决定薄膜界面质量与沉积均匀性；

• 厚度控制：提高热稳定性与设备适配性；

• 高纯度材料：降低界面杂质缺陷，提高光电性能。

TiO₂ 基片在高温沉积及退火过程中表现出良好的热稳定性，适用于多种薄膜沉积技术。

应用领域（Applications）

二氧化钛基片广泛应用于：

• 氧化物外延薄膜沉积（PLD、MBE、磁控溅射）

• 光催化与光电转换研究

• 透明导电薄膜结构

• 铁电与压电薄膜研究

• 气敏与光敏传感器

• 太阳能电池与光电器件

• 高折射率光学镀膜

其高折射率与优异光学透明性，使其在紫外与可见光波段研究中具有重要优势。

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ — 聚焦应用）

Q1：TiO₂ 基片适合哪些沉积方式？
A：适用于 PLD、MBE、RF/直流磁控溅射等。

Q2：是否适合高温退火？
A：可耐受 800°C 以上高温处理。

Q3：常见晶向如何选择？
A：根据外延薄膜晶格匹配需求选择。

Q4：是否可提供双面抛光？
A：支持单面或双面抛光规格。

Q5：是否适合光电研究？
A：广泛用于光催化与光电转换实验。

Q6：能否定制尺寸与厚度？
A：支持多种尺寸与厚度定制。

Q7：是否兼容玻璃或硅基器件？
A：可作为功能衬底集成于复合结构中。

Q8：表面是否需要清洗？
A：建议沉积前进行超声或等离子清洗。

Q9：光学性能是否稳定？
A：在常规实验条件下稳定可靠。

Q10：适合透明导电薄膜吗？
A：可作为功能氧化物结构中的基础衬底。

包装与交付（Packaging）

所有 TiO₂ 基片在出厂前均经过晶向检测、表面质量检验与尺寸精度测试，并贴附唯一追溯标签。

采用洁净级真空封装、防震保护盒及出口标准包装，确保运输与储存过程中保持洁净与完好。

结论（Conclusion）

二氧化钛 TiO₂ 基片凭借其优异的光学性能、热稳定性与晶体质量，在光电器件与氧化物外延研究中发挥重要作用。其稳定可靠的材料特性，为高质量薄膜沉积与先进材料开发提供坚实基础。

如需了解更多技术参数或获取报价，请联系：sales@keyuematerials.com