硼化铝靶材(AlB₂)

硼化铝靶材(AlB₂)

产品简介(Introduction)

硼化铝(AlB₂)是一种典型的金属硼化物材料,具有 较高的硬度、良好的热稳定性、优异的化学惰性以及较低密度。AlB₂ 薄膜在耐磨涂层、功能保护层、电子与能源材料研究等领域具有潜在应用价值,尤其适合对轻量化与耐高温性能有要求的薄膜结构。

作为磁控溅射靶材,AlB₂ 可用于沉积 致密、结构稳定的硼化物薄膜,在科研与功能薄膜开发中被广泛采用。


产品详情(Detailed Description)

  • 化学式: AlB₂

  • 材料类型: 金属硼化物

  • 纯度: 99.5% – 99.99%

  • 外观: 深灰色至黑灰色,致密陶瓷金属质感

  • 尺寸范围: Ø25–300 mm(支持方形、矩形、异形定制)

  • 厚度: 2–6 mm(可定制)

  • 致密度: ≥95% 理论密度

  • 制造工艺:

    • 高纯铝与硼原料反应合成

    • 冷等静压(CIP)或热压烧结(HP)

    • 真空 / 惰性气氛烧结

    • 精密 CNC 加工、倒角与表面清洗

  • 背板选项: Cu / Ti / 铟焊(Indium Bonding)

  • 适用工艺: RF 磁控溅射(推荐)、离子束溅射、PVD 功能薄膜系统

说明:AlB₂ 属于弱导电或半导体特性材料,实际溅射方式取决于靶材致密度与电导率,科研应用中多采用 RF 模式。


应用领域(Applications)

  • 耐磨与防护涂层(Wear & Protective Coatings)
    用于提升基材表面的硬度、耐磨性与抗腐蚀能力。

  • 高温功能薄膜
    适用于高温环境下的结构或保护薄膜研究。

  • 电子与功能材料研究
    用于硼化物导电/半导体特性相关研究。

  • 轻量化薄膜结构
    AlB₂ 低密度特性适合轻量化功能涂层设计。

  • 科研与教学实验
    硼化物薄膜制备与材料性能研究。


技术参数(Technical Parameters)

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.5%–99.99% 影响薄膜结构与稳定性
直径 Ø25–300 mm 适配主流溅射系统
厚度 2–6 mm 可按溅射寿命定制
致密度 ≥95% 减少颗粒与溅射异常
电学性质 弱导电 / 半导体 通常采用 RF
背板 Cu / Ti / In bonding 改善散热、防止开裂

相关材料对比(Comparison with Related Materials)

材料 特点 典型应用
AlB₂ 轻量、高硬度 功能/防护薄膜
TiB₂ 极高硬度、导电性好 硬质涂层
ZrB₂ 超高熔点 高温防护
AlN 绝缘性好 介电与热管理

常见问题(FAQ)

  • AlB₂ 靶材适合 DC 还是 RF?
    通常推荐 RF 溅射。

  • AlB₂ 是否容易氧化?
    表面在空气中可能轻微氧化,建议真空密封保存。

  • 是否支持小尺寸科研靶材?
    支持 ≤1 英寸规格。

  • 是否建议使用背板?
    中高功率或长时间沉积建议使用。


包装与交付(Packaging)

  • 单片真空密封包装

  • 防静电袋 + 防震泡棉

  • 出口级木箱

  • 提供纯度、尺寸与批次追溯文件


结论(Conclusion)

硼化铝靶材(AlB₂)凭借其轻量化特性、良好的热稳定性和耐磨性能,在功能薄膜与防护涂层领域具有独特优势。苏州科跃材料科技有限公司可提供 高纯度、高致密度、全规格定制的 AlB₂ 溅射靶材,支持科研与前沿应用开发。

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