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银靶材(Silver Sputtering Target, Ag)是薄膜行业中应用最广的高纯金属材料之一,以其极高的导电率、优异的光学反射率和良好的化学稳定性,被广泛用于透明导电膜、光电器件、微电子器件、电极层及装饰镀膜等领域。
银在金属中拥有最高的电导率和极佳的光学性能,可在薄膜沉积过程中形成低电阻、高均匀性、附着力强且光学特性可控的膜层,是高性能元件制造中不可替代的重要靶材。
苏州科跃材料科技有限公司提供高纯银靶材,具备以下优势:
纯度: 99.99% – 99.999%(4N–5N)
高纯度可显著减少薄膜颗粒、降低电阻,提高光电性能。
尺寸范围: 直径 25–300 mm,可完全按需定制。
厚度常规为 3–6 mm,适配主流 DC/RF 磁控溅射设备。
制造工艺:
真空熔炼及精炼
高致密度热轧/冷轧
精密机加工
CIP/HIP 致密化工艺(可选)
致密度可达 ≥99% TD,提升溅射稳定性与膜层均匀性。
背板结合(可选):
铜背板(Cu)、钛背板(Ti)、铟焊(In-Bonding)
用于提高散热效率、减少靶材炸裂并提升使用寿命。
银靶材表面光洁度高、组织均匀、颗粒率低,可满足半导体、显示和光伏行业的严格要求。
银靶材因其优异的光电特性,应用范围极为广泛,包括:
透明导电膜(TCF)
如 Ag-based TCF、ITO-Ag-ITO 结构、纳米银薄膜。
半导体与微电子器件
低电阻电极、电触点、互连薄膜、阻挡层结构。
光学镀膜
高反射镜、滤光膜、太阳能反射膜。
显示技术(OLED、Mini-LED、Micro-LED)
电极薄膜、反射层、光学耦合层。
光伏产业(Solar)
Ag 电极薄膜、反光膜层、功能性涂层。
传感器技术
SERS、表面增强光学薄膜、生物检测薄膜。
科研领域
银基合金薄膜、低电阻材料研究、纳米光学实验等。
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.99%–99.999% | 纯度越高,电阻越低、薄膜缺陷越少 |
| 直径 | 25–300 mm(可定制) | 可匹配不同溅射腔体尺寸 |
| 厚度 | 3–6 mm | 影响溅射速率与靶材寿命 |
| 致密度 | ≥99% TD | 保障薄膜均匀性与附着力 |
| 背板结合 | Cu/Ti/Indium Bonded | 提高散热与结构强度 |
| 材料 | 主要优势 | 常用应用 |
|---|---|---|
| 银靶材(Ag) | 最高导电率、反射率极高 | TCF、电极、反射薄膜 |
| 铝靶材(Al) | 成本低、附着力好 | 通用电子薄膜 |
| 金靶材(Au) | 稳定性好、耐腐蚀 | 微电子、光电电极 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| 银靶材适合哪些溅射方式? | 适用于 DC、RF、IBS、HiPIMS 等多种沉积方式。 |
| 银薄膜的电阻如何? | Ag 薄膜电阻极低,非常适合作为透明导电膜电极。 |
| 会氧化吗? | 银稳定性较好,表面可能轻微硫化,但不影响溅射性能。 |
| 可否做超大尺寸靶材? | 可定制至 Φ300 mm,支持大面积镀膜生产线。 |
| 能做复合结构薄膜吗? | 可与 Ti、Pd、Au、Cu 等共溅射。 |
| 膜层附着力如何? | 通过适当的工艺参数可达到优良附着力。 |
| 是否支持铟焊背板? | 是,支持 In-bonding、Cu/Ti 背板结合。 |
| 是否可以提供 COA? | 可提供纯度分析、致密度、显微组织等检测报告。 |
| 与 ITO 搭配效果如何? | 常用于 ITO-Ag-ITO 复合结构,导电性与透光性更佳。 |
| 膜层是否适合光学应用? | 银反射率高,可用于红外、可见光反射薄膜。 |
多层真空密封
防震泡沫固定
出口级箱体包装
单件附唯一溯源码与合格证
确保运输过程中无污染、无变形、无氧化。
银靶材凭借其极高的导电率、光学性能及优异的薄膜形貌控制能力,广泛应用于显示、光伏、半导体和光学行业,是高性能薄膜制备不可缺少的重要材料。苏州科跃材料可根据客户设备与工艺需求定制各种规格的高纯银靶材,为科研与生产提供可靠支持。
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属(3N~6N)、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案,服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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