铜铝靶材(CuAl)

铜铝靶材(CuAl)

产品简介(Introduction)

铜铝靶材(CuAl)是一种由铜(Cu)与铝(Al)组成的高性能合金溅射靶材,兼具铜的高导电性、优良导热性与铝的轻量、抗氧化性和良好成膜特性。CuAl 薄膜在集成电路布线(金属互连)、半导体封装、装饰膜、光学镀膜以及微电子器件制造中具有稳定表现,是电子工业与真空镀膜领域广泛使用的重要材料。


产品详情(Detailed Description)

铜铝靶材通常通过真空熔炼、CIP 冷等静压、热压烧结(HP)或热等静压(HIP)制备,以获得均匀组织、低氧含量与高致密度。靶材经过精密机加工处理,可确保溅射过程中的均匀沉积速率与稳定的薄膜附着力。

典型规格

  • 纯度(Purity): 99.9% – 99.99%

  • 成分比(Composition): Cu-Al 合金(支持 wt%/at% 定制,常见 Cu80Al20、Cu90Al10 等)

  • 尺寸(Size): 圆形靶 Ø25–300 mm;矩形靶可定制

  • 厚度(Thickness): 2–8 mm(可提供薄靶片)

  • 制造工艺(Process): Vacuum Melting / CIP / HP / HIP

  • 背板(Bonding Options): 铜背板、钛背板、铟焊接(In-Bonding)

材料特性

  • 出色的导电性与导热性

  • 膜层致密,附着力强

  • 耐氧化性能优于纯铜

  • 易获得高度均匀的薄膜厚度

  • 溅射速率稳定、颗粒率低


应用领域(Applications)

1. 半导体金属互连(IC Interconnection)

CuAl 的抗电迁移能力比纯铜更优,可用于:

  • 晶圆金属布线

  • 芯片封装金属层

  • 低电阻金属互连


2. 微电子与传感器

用于 MEMS、薄膜电阻、半导体接触层:

  • 耐腐蚀接触电极

  • 功率器件金属层

  • 电阻与敏感薄膜应用


3. 装饰性与功能性镀膜

凭借金属光泽稳定性,适用于:

  • 建筑五金镀膜

  • 消费电子外观金属层

  • 耐磨装饰膜


4. 光学镀膜(Optical Coatings)

CuAl 薄膜组合光学特性良好,可用于:

  • 反射膜

  • 红外功能薄膜

  • 多层光学堆叠膜系


技术参数(Technical Parameters)

参数 典型值/范围 说明
纯度 99.9% – 99.99% 科研级 / 工业级可选
密度 ≥98% TD 致密度高,薄膜缺陷少
成分比 Cu/Al 可定制 调整电导率与机械特性
厚度 2–8 mm 支持薄靶片
背板加入 Cu / Ti / In 焊 提升散热性能和机械强度

常见问题(FAQ)

1. CuAl 是否适合 RF 溅射?
适合,DC/RF/HiPIMS 均可使用。

2. 成分比能否自定义?
支持 wt% 或 at% 全范围定制。

3. CuAl 薄膜的导电性是否优于纯铝?
是的,导电性明显提升,并提高耐蚀性。

4. 是否支持加背板?
支持铟焊接、铜背板和钛背板。

5. CuAl 适用于哪些基底?
玻璃、Si、蓝宝石、不锈钢、陶瓷等。


包装(Packaging)

  • 超声清洗

  • 双层真空包装

  • 防静电与防震保护

  • 出口级木箱

  • 每件均附唯一批次编号及质检报告(COA)