定制生产

为什么选择我们

Keyue Materials 提供高纯度材料与先进工艺,满足全球科研与工业客户的定制需求。

高纯度材料 (3N–6N)

提供3N至6N等级高纯度金属及化合物,保证薄膜沉积品质与可靠性。

先进真空与薄膜沉积技术

多年的磁控溅射与蒸发经验,支持复杂多层膜及大面积镀膜项目。

全球研发与工业供应经验

为科研机构与高科技企业长期供货,项目遍布北美、欧洲及亚洲。

快速打样与灵活MOQ

支持小批量试产和快速原型开发,满足多样化定制需求。

定制能力

涵盖溅射靶材、蒸发材料、蒸发源、粉末、特殊合金、复合材料等完整产品线,满足科研与工业定制需求。

溅射靶材图标

溅射靶材

圆靶、矩形靶、复合靶,可附背板。

蒸发材料图标

蒸发材料

颗粒、条状、片状等多规格,适配电子束和热蒸发。

蒸发源图标

蒸发源

包括舟型坩埚、圆柱坩埚、螺旋丝等多种结构。

粉末图标

粉末

纯金属粉、氧化物粉、球形粉及特种功能粉。

特殊合金图标

特殊合金

高性能定制合金及难熔金属混合靶材。

复合材料图标

复合材料

多元化复合靶材、复合膜及特种层状结构。

生产流程

从需求沟通到全球交付的完整定制化生产步骤。

1. 需求分析与设计

与客户深入沟通应用场景与参数要求,提供专业化设计方案和图纸确认。

2. 材料选择与粉末制备

甄选高纯度原料并精确配比粉末,确保化学计量和杂质控制。

3. 成形与烧结 / 热压

采用冷等静压、热压等工艺,提高致密度与力学性能。

4. 精密加工与背板焊接

数控加工保证尺寸公差与表面光洁度,可根据需求完成背板焊接。

5. 质量检测(CoA、密度、纯度)

利用密度测试、ICP-OES 等设备验证纯度和微观结构,并出具分析证书 (CoA)。

6. 包装与全球发货

采用真空或惰性气体保护包装,符合国际运输规范,安全送达全球客户。

质量与认证

严格的质量管理体系与国际认证,确保产品稳定可靠并可追溯。

ISO 9001

国际质量管理体系认证,确保生产全流程稳定与持续改进。

RoHS / REACH

符合欧盟环保法规,保障材料的环境与人体安全。

CoA 与 SDS

每批产品随附分析证书 (CoA) 与安全数据表 (SDS),信息可追溯。

检测设备

密度测试仪、ICP-OES 纯度分析、颗粒度与表面粗糙度检测等。

检测项目典型参数
密度≥97% 理论密度
纯度2N – 6N (99% – 99.9999%)
颗粒度D50 1–50 μm(可定制)
表面粗糙度Ra ≤ 0.4 μm

案例与应用亮点

典型定制项目展示:从挑战到解决方案与成果。

氮化镓靶材定制案例

半导体研究用氮化镓 (GaN) 靶材

挑战:实现高导电率与低缺陷率的GaN薄膜。
解决方案:选用高纯GaN粉末并采用热压成形工艺。
成果:靶材纯度达5N,满足先进半导体实验需求。

大面积ZrC靶材案例

显示玻璃用大面积 ZrC 溅射靶

挑战:需要高致密度的大尺寸碳化锆靶材。
解决方案:采用冷等静压与真空烧结,并进行精密加工。
成果:实现 ≥98% 理论密度,镀膜均匀稳定。