铂板(Pt)

铂板(Platinum Plate)以其卓越的化学稳定性与耐高温特性,广泛应用于实验室、电子、电极与真空镀膜领域。支持定制尺寸与纯度等级。

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描述

铂板(Platinum Plate, Pt Plate)

产品简介

铂板(Pt Plate)是一种由高纯铂(Purity ≥ 99.95%)制成的贵金属材料,具有极高的化学稳定性、电导率和耐腐蚀性
由于其在高温和强氧化环境中依然保持惰性,铂板被广泛应用于实验室坩埚、加热元件、电极、催化基底、薄膜制备及化工反应系统中。

作为贵金属材料,铂板不仅在科研实验中具有重要地位,也是高端电子、光学及化工设备中的关键功能部件。


产品详情

苏州科跃材料科技有限公司生产的高纯铂板采用真空熔炼—热轧—退火—精密抛光工艺制备,晶粒均匀细密,表面光洁无裂纹、无氧化层。
产品符合 ASTM B684 / ISO 9001 标准,可提供实验室级与工业级两种版本。

典型规格:

  • 纯度等级:99.95%、99.99%、99.999%

  • 厚度范围:0.1 – 5 mm(可定制)

  • 尺寸范围:≤ 300 × 300 mm

  • 制造工艺:真空熔炼 + 热轧 + 退火 + 抛光

  • 表面状态:银白色 / 抛光光亮 / 无氧化层


性能特点

  • 化学惰性极强:几乎不与酸、碱及氧气反应。

  • 优异的电导性与热稳定性:适合电极与加热器使用。

  • 高温抗氧化性:可在 1600°C 以上稳定工作。

  • 高延展性:便于精密冲压与焊接。

  • 耐腐蚀与耐酸碱:适用于苛刻化学环境。


应用领域

  • 化学实验设备:坩埚、蒸发皿、催化载体

  • 电子工业:电极、引线、热电偶、传感器

  • 真空镀膜与PVD设备:高纯溅射靶材基底

  • 光学与精密仪器:反射镜与高温组件

  • 航空与核能:用于极端环境的耐蚀件


技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.95–99.999% 纯度越高,抗腐蚀性越好
熔点 1768 °C 高温稳定不熔化
密度 21.45 g/cm³ 致密金属结构
电阻率 10.6 × 10⁻⁸ Ω·m 稳定导电性能
热导率 72 W/m·K 良好导热能力
硬度 HV 40–60 可根据退火状态调整
延展性 易加工、易焊接
磁性 适合电子真空系统使用

常见问题(FAQ)

问题 答案
铂板能耐多高温? 可在 1600°C 以上长期稳定使用。
是否具磁性? 无磁性。
是否可焊接? 可进行TIG焊、电子束焊等。
是否适合真空系统? 是,常用于真空镀膜和炉体内衬。
是否可定制厚度? 支持0.1–5 mm范围定制。
是否附检测报告? 附化学成分与纯度检测文件。
是否符合RoHS/REACH? 是,符合国际环保标准。
是否支持小批量? 可提供科研级样品与批量供货。

包装与交付

所有铂板均经过纯度检测与表面抛光处理,出厂前进行真空密封包装、防潮防氧化处理
外层采用防震泡沫与出口级木箱,确保运输安全。
附带 COC、纯度检测报告、RoHS/REACH 文件

其他信息

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.