铜板(Cu)

铜板(Cu Plate)以其卓越的导电导热性能和化学稳定性,被广泛应用于电子、真空和能源系统中,是科研与工业中的关键功能金属材料。

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描述

铜板(Copper Plate, Cu Plate)

产品简介

铜板(Cu Plate)是一种由高纯铜(Purity ≥ 99.9%)制成的金属板材,具有优异的导电性、导热性、延展性和抗腐蚀性能
作为电子、真空、化工及能源领域的关键基础材料,铜板在电气工程、散热系统、真空装置及薄膜沉积背板中发挥着重要作用。


产品详情

苏州科跃材料科技有限公司生产的高纯铜板采用真空熔炼—热轧—退火—精抛光工艺制造,表面平整光滑、晶粒致密均匀。
产品符合 ASTM B152 / GB/T 5231 / ISO 9001 标准,可提供 OFHC(无氧铜)、ETP(电解铜)与高纯科研级铜 等不同版本。

典型规格:

  • 纯度等级:99.9%、99.99%、99.999%

  • 厚度范围:0.2 – 50 mm

  • 宽度范围:≤ 1000 mm

  • 制造工艺:真空熔炼 + 热轧 + 真空退火 + 抛光

  • 表面状态:红铜色 / 光亮抛光 / 无氧化层


性能特点

  • 极高导电率:电导率达5.96 × 10⁷ S/m,是所有工业金属中最高之一。

  • 优良导热性能:导热率高达401 W/m·K,适用于散热与热传导部件。

  • 优异加工性能:延展性好,可冷轧、冲压、折弯与焊接。

  • 良好耐蚀性:在大气、淡水与非氧化性酸中稳定。

  • 真空兼容性强:在真空环境中具有低放气率与高热稳定性。


应用领域

  • 电子与电气工程:导电板、汇流排、电极与接触片。

  • 真空设备:用于溅射靶背板、真空腔体法兰、热沉。

  • 半导体与薄膜沉积:用于靶材结合、导电层与散热支撑。

  • 能源系统:太阳能电池板、电池极板与热能转换模块。

  • 化工防腐设备:用于换热器、反应釜衬板。


技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.9–99.999% 高纯度导电金属
密度 8.96 g/cm³ 致密结构
熔点 1084.6 °C 稳定高温性能
电导率 5.96 × 10⁷ S/m 极高导电率
热导率 401 W/m·K 优异导热性能
抗拉强度 210–260 MPa 良好机械性能
延伸率 30–40% 优秀塑性
硬度 HV 45–85 可根据状态调节
磁性 非磁性材料

常见问题(FAQ)

问题 答案
铜板导电性能如何? 电导率极高,适用于高精度电子系统。
是否可用于真空环境? 可用于真空设备及溅射背板。
是否易氧化? 无氧铜表面稳定,不易氧化。
是否可焊接? 适合钎焊、激光焊、真空扩散焊。
是否可作为散热材料? 可,导热性能极佳。
是否附检测报告? 提供纯度、化学成分与性能报告。
是否可定制尺寸? 支持厚度、宽度及形状定制。
是否符合RoHS/REACH? 符合国际环保标准。
是否适合科研使用? 提供电子级与科研级版本。
是否可与靶材结合? 可作为溅射靶材铜背板使用。

包装与交付

所有铜板出厂前均经检测,确保表面洁净与尺寸精度。
采用真空密封、防潮、防氧化包装,外层使用出口级木箱。
附带 COC、RoHS/REACH 文件及检测报告

其他信息

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.