钛板(Ti)

钛板(Ti Plate)以其轻质、高强、耐腐蚀和无磁性特征,广泛应用于航空、能源、化工和真空系统中,是高性能结构与功能性材料的重要组成。

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描述

钛板(Titanium Plate, Ti Plate)

产品简介

钛板(Ti Plate)是一种由高纯钛(Purity ≥ 99.5%–99.99%)制成的轻质高强金属板材,具有优异的强度重量比、耐腐蚀性和生物相容性
钛的密度仅为钢的60%,却拥有接近钢的强度,使其成为航空航天、化工设备、医疗器械、海洋工程和真空系统的理想材料。


产品详情

苏州科跃材料科技有限公司生产的高纯钛板采用真空熔炼—热轧—退火—精抛光工艺制造,晶粒细密、表面光滑、机械性能优异。
产品符合 ASTM B265 / GB/T 3621 / ISO 9001 标准,提供纯钛(Gr1–Gr4)与钛合金(如 Ti-6Al-4V, Gr5)版本。

典型规格:

  • 纯度等级:99.5%、99.9%、99.99%

  • 厚度范围:0.3 – 20 mm

  • 尺寸范围:≤ 1000 × 1000 mm(可定制)

  • 制造工艺:真空熔炼 + 热轧 + 真空退火 + 抛光

  • 表面状态:银灰色 / 抛光光亮 / 无氧化层


性能特点

  • 轻质高强:比强度高于钢,适合结构减重设计。

  • 优异耐腐蚀性:在酸碱及海水环境中表现突出。

  • 高温性能稳定:在500°C以下保持机械强度。

  • 良好生物相容性:适用于医疗植入与实验器材。

  • 无磁性与导热性适中:适合真空与电子设备应用。


应用领域

  • 航空航天:机身结构件、紧固件、燃油系统组件。

  • 化工与能源:换热器、反应釜与电解槽电极。

  • 医疗器械:骨科植入、外科工具与实验支架。

  • 真空系统与镀膜设备:真空法兰、溅射靶背板。

  • 海洋工程:耐海水腐蚀部件与潜航器外壳。


技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.5–99.99% 高纯钛金属
密度 4.51 g/cm³ 轻质结构金属
熔点 1668 °C 高温性能优异
电导率 2.4 × 10⁶ S/m 稳定导电性
热导率 21.9 W/m·K 导热性良好
抗拉强度 350–600 MPa 高强度材料
延伸率 20–30% 良好塑性
硬度 HV 120–200 可退火或强化处理
磁性 适合真空系统使用

常见问题(FAQ)

问题 答案
钛板是否具磁性? 无磁性。
是否可用于真空设备? 可用于高真空系统及法兰部件。
是否耐酸碱腐蚀? 对多数酸、碱、氯化物介质均耐腐蚀。
是否可焊接? 可采用氩弧焊(TIG)或真空焊接。
是否易氧化? 在空气中形成致密氧化膜,防止深层氧化。
是否可抛光? 可提供镜面级抛光表面。
是否附检测报告? 附纯度、成分及机械性能检测文件。
是否符合RoHS/REACH? 是,符合国际环保标准。
是否可定制尺寸? 可按需求切割定制。
是否支持科研样品? 提供科研级小批量供货。

包装与交付

所有钛板出厂前均经检测并进行真空退火处理。
产品采用真空密封、防潮、防氧化包装,外层为出口级木箱加固。
附带 COC、检测报告、RoHS/REACH 文件

其他信息

首字母

T

评价

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.