钒板(V)

钒板(V Plate)以其高熔点、优异机械性能及抗氧化特性,被广泛应用于航空航天、核能、电子与真空领域,是高温结构与镀膜材料的理想选择。

描述

钒板(Vanadium Plate, V Plate)

产品简介

钒板(V Plate)是一种由高纯钒(Purity ≥ 99.5%–99.9%)制成的过渡金属板材,具有优良的机械强度、延展性、高熔点及抗氧化性能
钒因其出色的物理与化学特性,被广泛用于航空航天、核能工业、超级合金制造、电子真空系统薄膜材料研究等领域。


产品详情

苏州科跃材料科技有限公司生产的高纯钒板采用真空电弧熔炼—热轧—真空退火—机械抛光工艺制备,晶粒均匀致密,纯度高,表面光滑。
产品符合 ASTM B265 / GB/T 3876 / ISO 9001 标准,可提供科研级与工业级版本。

典型规格:

  • 纯度等级:99.5%、99.9%

  • 厚度范围:0.2 – 20 mm

  • 尺寸范围:≤ 300 × 300 mm(可定制)

  • 制造工艺:真空熔炼 + 热轧 + 真空退火 + 抛光

  • 表面状态:银灰色 / 光亮抛光 / 无氧化层


性能特点

  • 高熔点(1910 °C):适合高温环境使用。

  • 优异机械强度与韧性:可承受高温应力与变形。

  • 良好抗氧化性:表面形成稳定钒氧化膜。

  • 真空稳定性强:低蒸气压,适合真空及镀膜系统。

  • 易合金化特性:常用于制造钛合金、超导合金等。


应用领域

  • 航空航天与核能:用于高温结构件、包壳材料与反应堆组件。

  • 超级合金制造:钒是钛合金与Ni基高温合金的强化元素。

  • 电子与真空设备:用于电极、支架与导电部件。

  • 薄膜与镀膜材料:用作溅射靶材或蒸发源。

  • 化学催化与冶金添加剂:用于催化剂载体及耐蚀合金中。


技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.5–99.9% 高纯钒金属
密度 6.11 g/cm³ 致密结构
熔点 1910 °C 高温金属
沸点 3407 °C 热稳定性强
电导率 5.0 × 10⁶ S/m 稳定导电性能
热导率 30 W/m·K 导热性良好
抗拉强度 350–500 MPa 高强度材料
延伸率 20–25% 良好塑性
硬度 HV 150–200 中等硬度
磁性 无磁性 适合真空环境

常见问题(FAQ)

问题 答案
钒板是否具磁性? 无磁性。
是否适合真空系统? 是,低蒸气压且稳定性好。
是否可用于溅射或蒸发? 可直接作为溅射靶或蒸发源使用。
是否易氧化? 高温空气中易氧化,建议在真空或惰性气氛使用。
是否可焊接? 可在真空或惰性气体中焊接。
是否提供检测报告? 附化学成分及纯度检测文件。
是否符合RoHS/REACH? 完全符合国际环保标准。
是否支持科研样品? 支持小批量及定制供货。
是否可抛光至镜面? 可提供镜面抛光版本。
交货周期多久? 常规规格2–3周交付。

包装与交付

所有钒板出厂前均经真空退火与纯度检测处理,采用真空密封、防潮、防氧化包装,外层为出口级木箱。
提供 COC、RoHS/REACH 文件及检测报告

其他信息

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.