锆板(Zr)

锆板(Zr Plate)以其出色的耐腐蚀性、高温稳定性与低中子吸收特性,被广泛用于核能、化工、真空与半导体领域,是高性能结构金属与功能材料的重要代表。

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描述

锆板(Zirconium Plate, Zr Plate)

产品简介

锆板(Zr Plate)是一种由高纯锆(Purity ≥ 99.5%–99.95%)制成的稀有金属板材,具有极高的耐腐蚀性、优异的延展性和低中子吸收截面
由于其稳定的化学性质和优良的机械性能,锆板被广泛应用于核能、化工、真空电子、半导体镀膜和高温合金制造等领域。


产品详情

苏州科跃材料科技有限公司生产的高纯锆板采用真空电子束熔炼(EBM)—热轧—真空退火—机械抛光工艺制造,产品组织致密、纯度高、表面光洁。
符合 ASTM B551 / GB/T 15007 / ISO 9001 标准,可提供科研级与工业级版本。

典型规格:

  • 纯度等级:99.5%、99.7%、99.95%

  • 厚度范围:0.2 – 20 mm

  • 尺寸范围:≤ 1000 × 1000 mm(可定制)

  • 制造工艺:真空熔炼 + 热轧 + 真空退火 + 精密抛光

  • 表面状态:银灰色 / 光亮抛光 / 无氧化层


性能特点

  • 高熔点(1855 °C):适合高温结构应用。

  • 优异耐腐蚀性:几乎不受盐酸、硫酸、碱液及海水侵蚀。

  • 极低中子吸收截面:是核反应堆理想材料。

  • 良好延展性与可焊性:适合复杂结构加工。

  • 稳定化学性能:在高温与真空环境中保持稳定。


应用领域

  • 核能工业:用于燃料包壳管、反应堆结构件。

  • 化工设备:用于耐腐蚀反应釜、换热器、泵壳、阀体。

  • 航空航天:用于高温耐腐蚀部件与合金基材。

  • 真空与电子工业:用于真空封接、电极、支撑件。

  • 薄膜材料:用于溅射靶材、蒸发源及金属掩膜。


技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.5–99.95% 高纯锆金属
密度 6.51 g/cm³ 致密结构
熔点 1855 °C 高温稳定性强
沸点 4409 °C 热稳定性优异
电导率 2.4 × 10⁶ S/m 良好导电性能
热导率 22 W/m·K 导热性能稳定
抗拉强度 330–540 MPa 高强度材料
延伸率 20–35% 可塑性好
硬度 HV 160–210 可抛光处理
磁性 无磁性 适用于真空环境
中子吸收截面 0.18 barns 极低值,核工业理想材料

常见问题(FAQ)

问题 答案
锆板是否具磁性? 无磁性。
是否适合真空系统? 是的,具有低蒸气压与高纯度。
是否可用于核反应堆? 是的,常用于燃料包壳与结构组件。
是否可用于溅射或蒸发? 可直接作为靶材或蒸发源使用。
是否易氧化? 在高温空气中易氧化,建议在惰性气氛保存。
是否可抛光? 可提供镜面抛光版本。
是否附检测报告? 提供纯度及成分检测文件。
是否符合RoHS/REACH? 是,完全符合国际环保标准。
是否支持科研样品? 支持小批量供货。
交货周期? 常规规格2–3周内交付。

包装与交付

所有锆板出厂前均经真空退火与纯度检测处理,采用真空密封、防潮、防氧化包装,外层为出口级木箱。
提供 RoHS、REACH、COC 及材质检测报告

其他信息

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评价

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.