铌板(Nb)

铌板(Nb Plate)具有高熔点、优异导电性与抗腐蚀性能,被广泛用于真空电子、超导与镀膜领域,是高温及高纯环境下不可替代的关键金属材料。

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描述

铌板(Niobium Plate, Nb Plate)

产品简介

铌板(Nb Plate)是一种由高纯铌(Purity ≥ 99.9%–99.99%)制成的稀有难熔金属板材,具有优异的延展性、高温强度、耐腐蚀性和超导性能
铌因其独特的物理特性,被广泛应用于电子真空器件、超导技术、化工设备、航空航天和半导体镀膜等领域。


产品详情

苏州科跃材料科技有限公司生产的高纯铌板采用真空电子束熔炼—热轧—真空退火—精抛光工艺制造,组织均匀致密,表面光洁亮丽。
产品符合 ASTM B393 / GB/T 15008 / ISO 9001 标准,提供科研级与工业级版本。

典型规格:

  • 纯度等级:99.9%、99.95%、99.99%

  • 厚度范围:0.2 – 20 mm

  • 尺寸范围:≤ 1000 × 1000 mm(可定制)

  • 制造工艺:真空熔炼 + 热轧 + 真空退火 + 抛光

  • 表面状态:银灰色 / 抛光光亮 / 无氧化层


性能特点

  • 高熔点(2477 °C):可长期用于高温环境。

  • 优异耐腐蚀性:对酸、碱及氧化性介质稳定。

  • 良好延展性:便于加工成片、箔、丝等形态。

  • 超导特性:在低温下具备优异超导性能。

  • 真空稳定性高:低蒸气压,适用于超高真空设备。


应用领域

  • 电子与真空器件:用于真空腔体、电极、加热元件。

  • 超导材料:Nb-Ti、Nb₃Sn 等超导线材关键原料。

  • 航空航天:高温结构件、喷嘴及推进系统组件。

  • 化工设备:用于耐腐蚀反应釜、热交换器、酸洗系统。

  • 半导体与镀膜:用作溅射靶材、掩膜板及反应材料。


技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.9–99.99% 高纯铌金属
密度 8.57 g/cm³ 致密结构
熔点 2477 °C 高温金属
沸点 4744 °C 热稳定性强
电导率 6.7 × 10⁶ S/m 良好导电性能
热导率 53 W/m·K 导热性优异
抗拉强度 300–600 MPa 高韧性金属
延伸率 20–40% 良好塑性
硬度 HV 90–150 适中硬度
磁性 适用于真空设备
超导转变温度 9.25 K 典型超导金属

常见问题(FAQ)

问题 答案
铌板是否具磁性? 无磁性。
是否可用于真空系统? 是,常用于真空腔体与电极材料。
是否可焊接? 可采用真空焊或惰性气体保护焊。
是否易氧化? 在空气中缓慢氧化,建议惰性气氛保存。
是否可抛光? 可提供镜面抛光版本。
是否附检测报告? 附纯度与化学成分分析报告。
是否符合RoHS/REACH? 是。
是否可定制尺寸? 支持定制厚度与尺寸。
是否支持科研样品? 提供小批量样品服务。
交货周期? 常规2–3周交付。

包装与交付

所有铌板出厂前均经过真空退火与纯度检测
产品采用真空密封、防潮、防氧化包装,外层配出口级木箱保护。
提供 RoHS/REACH/COC 文件与材质报告

其他信息

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.