镁管(Mg)

高纯镁管密度低、导热性好,适用于轻量化结构、散热系统及科研实验。提供纯镁及AZ31、AZ91等合金版本,可定制尺寸与表面处理,广泛用于航空航天、新能源及材料研究领域。

描述

镁管(Mg Tube)

产品简介

镁管(Mg Tube)是一种由高纯镁制成的轻质金属管材,具有极高的比强度、优良的导热性和良好的减震性能。镁是目前工程应用中最轻的结构金属,密度仅为1.74 g/cm³,约为铝的三分之二、钢的四分之一。镁管在航空航天、汽车制造、电子设备及科研实验中广泛应用,尤其适合需要轻量化和高热导性能的场合。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供的镁管采用高纯镁锭(纯度≥99.9%)通过挤压、热轧与真空退火工艺制成。产品表面光洁、壁厚均匀、机械性能稳定。可提供纯镁管及镁合金管(如 AZ31、AZ61、AZ91 等)。

典型规格如下:

  • 纯度等级:99.9%、99.95%

  • 外径范围:6 – 100 mm

  • 壁厚范围:0.5 – 5 mm

  • 长度:≤2000 mm(可定制)

  • 制造工艺:热挤压 + 精密冷拉 + 真空退火 + 抛光

  • 合金系列:AZ31、AZ61、AZ80、ZK60 等

镁管可提供退火态(O)或硬态(H)两种状态,具有优良的可加工性与耐疲劳特性,适合深加工与实验用途。

应用领域

镁管因其轻质与优异热性能,在多个行业具有广泛用途:

  • 航空航天:用于结构支架、散热导管、仪表外壳等。

  • 汽车制造:用于轻量化车身、吸能结构件。

  • 电子与通讯设备:作为散热导管与电磁屏蔽结构。

  • 新能源与电池:用于镁电池外壳与能量传导结构。

  • 科研与实验:在材料学、燃烧实验、镁基合金研究中广泛使用。

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.9% – 99.95% 高纯镁确保化学稳定性
密度 1.74 g/cm³ 轻量结构材料
熔点 650 °C 可在中温环境中使用
导热率 156 W/m·K 热导性能优异
抗拉强度 180 – 250 MPa(纯镁) 轻质强度平衡
延伸率 10 – 20% 加工性能良好
弹性模量 45 GPa 良好减震特性

常见问题(FAQ)

问题 答案
镁管是否容易氧化? 镁在空气中易生成氧化膜,建议储存于干燥环境或保护气氛下。
可否进行表面处理? 可提供阳极氧化、喷涂或钝化保护层。
是否可以焊接? 可以使用TIG焊或惰性气体保护焊。
是否提供镁合金版本? 是的,常见合金包括AZ31、AZ61、AZ91等。
镁管是否具磁性? 无磁性,适合磁场敏感设备。
可否定制超薄壁或毛细管? 可以,最小壁厚可达0.3 mm。
可用于导热结构吗? 镁的导热性能优良,适用于热交换与散热结构。
是否附带检测报告? 提供纯度、尺寸与力学性能检测报告。
可否加工螺纹或连接件? 可根据图纸进行CNC加工或端口成型。
是否适合科研实验? 是的,广泛用于材料研究及合金开发实验。

包装与交付

所有镁管出厂前均经外观与尺寸检测。产品真空密封、防潮包装,并置于防震泡沫及木箱中。运输过程全程防氧化保护。提供RoHS、REACH及成分检测报告。

结论

镁管(Mg Tube)以其轻质、高导热与优异可加工性成为轻量化设计与科研领域的重要材料。
如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com


镁管(Mg Tube)简短描述:
高纯镁管密度低、导热性好,适用于轻量化结构、散热系统及科研实验。提供纯镁及AZ31、AZ91等合金版本,可定制尺寸与表面处理,广泛用于航空航天、新能源及材料研究领域。

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.