锌管(Zn)

高纯锌管由99.99%锌制成,具优异的耐腐蚀性与导电性,适用于电化学、电镀、防护系统及科研实验。可定制尺寸与表面处理,广泛用于真空与电子工业领域。

描述


锌管(Zn Tube)

产品简介

锌管(Zn Tube)是一种以高纯锌为原料制成的金属管材,具有优异的耐腐蚀性能、导电性与可焊接性。锌是一种常用于电化学和防护应用的金属,能够在空气或潮湿环境中形成稳定的氧化膜,有效防止金属基材的进一步腐蚀。高纯锌管广泛用于电镀、化学实验、电化学反应及真空防护系统,是科研与工业制造中的重要材料。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供的锌管采用高纯锌锭(纯度≥99.99%)通过真空熔炼、挤压与精密拉拔工艺制备而成。产品管壁均匀、内外表面光滑、无夹杂物与气孔。
典型规格如下:

  • 纯度等级:99.9%、99.99%、99.999%

  • 外径范围:6 – 80 mm

  • 壁厚范围:0.5 – 5 mm

  • 长度:≤1000 mm(可定制)

  • 制造工艺:真空熔炼 + 冷拉 + 抛光 + 真空包装

高纯锌管机械性能稳定,易于加工与焊接,可根据客户需求提供圆管、毛细管及特种管结构。

应用领域

锌管在多个领域中具有广泛应用:

  • 电化学与电镀工业:用于电极、牺牲阳极与电解装置。

  • 防腐蚀系统:用于阴极保护管路及结构防护。

  • 科研实验:在化学反应与材料研究中作为高纯金属导管或样品容器。

  • 真空与电子设备:用于真空系统的气体传输及蒸发源组件。

  • 金属冶炼与合金制备:用于制备黄铜、锌合金及镀层材料。

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.9% – 99.999% 纯度越高,电化学性能越稳定
密度 7.14 g/cm³ 结构均匀、导电性能良好
熔点 419.5 °C 低熔点,易加工成型
电导率 16.6 × 10⁶ S/m 良好的导电性能
抗拉强度 110 – 150 MPa 兼具韧性与延展性
工艺 真空熔炼 + 冷加工 + 抛光 提高纯度与表面光洁度

常见问题(FAQ)

问题 答案
锌管是否易氧化? 锌在空气中会形成一层致密氧化膜,可有效防止进一步氧化。
可否用于电极? 可以,高纯锌常用作电化学电极或牺牲阳极。
是否可用于真空环境? 可以,真空熔炼与抛光处理后的锌管适用于真空系统。
能否加工毛细管? 可定制最小内径0.5 mm的高纯毛细管。
是否提供超高纯度(5N)版本? 可提供99.999%高纯锌,适用于科研用途。
锌管是否具磁性? 无磁性,适合磁场敏感实验。
可否与其他金属焊接? 可与铜、铝等通过钎焊或电弧焊结合。
可否提供表面处理? 可进行机械抛光、酸洗或镀镍保护层。
是否附带检测报告? 所有产品附带纯度分析与尺寸检测报告。
可否小批量订购? 支持科研用样品及定制小批量生产。

包装与交付

每根锌管在出厂前均经纯度与表面检测。产品采用真空密封包装,内衬防氧化膜,并配防震泡沫与防潮木箱。提供RoHS、REACH及材料成分证明文件。

结论

锌管(Zn Tube)凭借其优异的防腐蚀性能、良好导电性与加工性,被广泛用于防护、电化学及真空系统中。
如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.