锡丝(Sn)

高纯锡丝具有良好的可焊性与导电性,适用于电子焊接、真空蒸发及科研用途。纯度可达99.999%,表面光洁无氧化层,支持定制直径与盘丝形式。

描述

锡丝(Sn Wire)

产品简介

锡丝(Sn Wire)是一种由高纯锡(Purity ≥ 99.9%)制成的柔性金属丝材,具有优良的延展性、可焊性与抗氧化性能。锡在电子、电气和化学应用中具有重要地位,广泛用于焊接材料、化学镀层、电接触件及科研实验。
高纯锡丝熔点低、化学稳定性好,是电子焊料、真空蒸发源及电极材料的理想选择。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供的锡丝采用高纯锡锭经真空熔炼—拉丝—退火—表面清洁工艺制备,具有纯度高、杂质少、表面光洁的特点。产品可根据用途提供软态、硬态及不同直径规格。

典型规格:

  • 纯度等级:99.9%、99.99%、99.999%

  • 直径范围:0.1 – 5.0 mm(可定制)

  • 形态:卷丝 / 直丝 / 盘丝

  • 制造工艺:真空熔炼 + 精密拉丝 + 退火处理 + 表面净化

  • 表面状态:银白色 / 抛光 / 无氧化层

高纯锡丝具有低熔点、优良导电性和润湿性能,常用于电子焊接、金属镀层及薄膜沉积。

应用领域

锡丝在多个行业中有着广泛应用:

  • 电子与电气工程:用于焊接、封装、导线镀层。

  • 真空与蒸发镀膜:作为蒸发源材料用于薄膜制备。

  • 半导体工艺:用于键合、电极及封装材料。

  • 化学与冶金实验:作为高纯金属源或反应材料。

  • 能源与科研领域:用于电池材料与相变研究实验。

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.9% – 99.999% 高纯度减少焊接与电化学杂质影响
密度 7.31 g/cm³ 结构致密,易加工
熔点 231.9 °C 低熔点易焊接
电导率 9.17 × 10⁶ S/m 良好导电性能
延展性 适合细丝加工与绕制
工艺 真空熔炼 + 精密拉丝 确保纯度与光洁度

常见问题(FAQ)

问题 答案
锡丝可用于电子焊接吗? 可以,是常见焊料材料。
是否可提供高纯科研级? 可达99.999%纯度,适用于科研与真空蒸发。
是否具磁性? 无磁性,适合磁场敏感设备。
是否会氧化? 表面经真空处理与防氧化包装,可长期存放。
是否可定制直径? 支持0.1–5.0 mm范围定制。
可否用于真空蒸发? 是的,高纯锡丝常用于蒸发源。
是否提供检测报告? 附带纯度、尺寸及外观检测报告。
是否可卷盘包装? 可提供线轴或盘装包装形式。
交货周期? 常规规格2–3周,定制需确认交期。
可否批量采购? 支持科研小量与工业批量供货。

包装与交付

锡丝出厂前均经纯度与外观检测。产品采用真空密封、防氧化、防潮包装,卷盘放置于防震泡沫中并装入防潮木箱。提供RoHS、REACH、COC及材质分析文件。

结论

锡丝(Sn Wire)以其低熔点、优良可焊性和高纯度特性,广泛应用于电子、冶金和真空技术中。
如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com

其他信息

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.