镍丝(Ni)

描述

镍丝(Ni Wire)

产品简介

镍丝(Ni Wire)是一种由高纯镍(Purity ≥ 99.9%)制成的功能型金属丝材,具有优异的耐腐蚀性、导电性和抗氧化性能。镍在常温下表面会形成一层稳定的氧化膜,使其在酸、碱及高温环境中依然保持良好的化学稳定性。
高纯镍丝广泛应用于电子器件、电镀、电极、真空蒸发源及化学实验中,是科研与工业领域的重要基础金属材料。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司生产的高纯镍丝采用真空熔炼—拉丝—退火—表面净化工艺制备,具有纯度高、延展性好、表面光洁等特性。产品符合 ASTM B160 / B162 / B366 等标准,可定制多种规格及包装形式。

典型规格:

  • 纯度等级:99.9%、99.95%、99.99%

  • 直径范围:0.05 – 5.0 mm

  • 形态:卷丝 / 直丝 / 盘丝

  • 制造工艺:真空熔炼 + 精密拉丝 + 退火 + 抛光

  • 表面状态:银灰色 / 光亮 / 去氧化膜

高纯镍丝具备优良的机械性能与电学特性,可长期在真空及高温环境下稳定使用。

应用领域

镍丝因其化学稳定性与电学性能,在多个高端领域中被广泛使用:

  • 真空与电子器件:用于电子枪电极、加热丝及蒸发源。

  • 电镀与电极制造:用于电解电极与电化学实验。

  • 半导体工艺:用于PVD/CVD蒸发源及连接引线。

  • 化学与冶金实验:作为高纯金属源或催化载体。

  • 科研与能源领域:用于燃料电池、电极及传感器研究。

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.9% – 99.99% 高纯度减少电阻波动
密度 8.9 g/cm³ 均匀致密,无孔洞
熔点 1455 °C 适用于高温环境
电导率 14.3 × 10⁶ S/m 稳定导电性能
热导率 91 W/m·K 良好导热特性
延展性 适合精密拉丝加工
抗腐蚀性 优异 在酸碱介质中稳定

常见问题(FAQ)

问题 答案
镍丝可否用于电极? 是的,常用于电化学实验与电极制备。
是否可用作真空蒸发源? 可以,镍丝是常见蒸发源材料。
是否具磁性? 镍具有弱磁性。
是否容易氧化? 表面形成致密氧化膜后稳定性高。
是否支持小尺寸? 可提供直径至0.05 mm的细丝。
是否可卷盘包装? 可提供盘丝、线轴或切段形式。
是否附带检测报告? 每批产品附纯度与尺寸检测报告。
是否符合RoHS? 是的,所有产品均符合RoHS标准。
可否定制成非标长度? 支持按需求定制。
交货周期? 常规2–3周内交付。

包装与交付

所有镍丝出厂前均经纯度与尺寸检测。采用真空密封、防氧化包装,并以线盘或木箱防震运输。可提供RoHS、REACH、COC及材质检测报告,确保国际运输安全。

结论

镍丝(Ni Wire)凭借其优异的导电性、耐蚀性和高温性能,广泛应用于真空蒸发、电极制造及电子工业,是科研与高端制造中的关键材料。
如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.