钴丝(Co)

高纯钴丝具有优异的磁性、耐腐蚀性与高温稳定性,适用于磁性元件、电极、电化学与真空镀膜领域。纯度可达99.99%,表面光洁、结构致密,可定制线径与包装形式。

描述

钴丝(Co Wire)

产品简介

钴丝(Co Wire)是一种由高纯钴(Purity ≥ 99.9%)制成的功能金属丝材,具有优异的磁性、耐腐蚀性和高温稳定性。钴在高温下能保持良好的磁性与机械强度,是磁性材料、电极材料及合金制造的重要原料。
高纯钴丝广泛应用于磁性元件、电子器件、真空蒸发源、科研实验与高温结构材料等领域。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司生产的高纯钴丝采用真空熔炼—热锻—拉丝—退火—抛光工艺制备,产品纯度高、结构致密、表面光滑、无氧化层。符合 ASTM F90 与 ISO 9001 质量标准,可根据客户需求提供定制规格。

典型规格:

  • 纯度等级:99.9%、99.95%、99.99%

  • 直径范围:0.05 – 5.0 mm

  • 形态:卷丝 / 直丝 / 盘丝

  • 制造工艺:真空熔炼 + 热锻 + 拉丝 + 真空退火 + 抛光

  • 表面状态:金属灰色 / 抛光态 / 无氧化膜

高纯钴丝具有高磁导率、优异的机械强度和耐磨性,能在高温及强磁环境中长期稳定工作。

应用领域

钴丝在多个科研与工业领域中发挥着重要作用:

  • 磁性材料与电子元件:用于磁芯、电磁线圈及磁传感器。

  • 真空与薄膜沉积:作为蒸发源用于金属膜制备。

  • 电化学与电极制造:用于电极、电解阳极材料。

  • 高温与耐磨合金:作为合金添加元素。

  • 科研实验与材料开发:用于磁性研究与高温试验装置。

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.9% – 99.99% 高纯度降低杂质干扰
密度 8.9 g/cm³ 组织致密均匀
熔点 1495 °C 高温稳定性优异
电导率 17 × 10⁶ S/m 良好导电性
热导率 100 W/m·K 稳定导热性能
磁性 铁磁性 强磁性能
延展性 可精密拉丝加工

常见问题(FAQ)

问题 答案
钴丝是否具有磁性? 是的,钴为强磁性金属。
可否用于真空蒸发? 可以,常用于制备钴薄膜与合金层。
是否可定制直径? 支持0.05–5.0 mm范围定制。
是否具耐腐蚀性? 具有优良的抗氧化与耐酸性。
可否用于电极? 可作为电极及电催化材料。
是否提供检测报告? 每批产品附纯度、尺寸与外观检测报告。
是否支持小批量? 支持科研样品与批量供货。
是否可卷盘包装? 可提供盘丝或切段形式。
是否符合RoHS标准? 是的,所有产品均符合RoHS/REACH要求。
交货周期? 常规2–3周,定制需确认交期。

包装与交付

钴丝出厂前均经纯度与显微检测,采用真空密封、防氧化包装。产品卷盘外层配防潮、防震保护,并装入出口级木箱。提供RoHS、REACH、COC及材质检测文件,确保运输安全。

结论

钴丝(Co Wire)以其卓越的磁性、高温性能与化学稳定性,被广泛应用于磁性材料、电极、电化学及真空镀膜领域。
如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.