铑丝(Rh)

高纯铑丝具有极高反射率与耐腐蚀性,适用于热电偶、电极与真空镀膜。纯度可达99.99%,表面光洁、机械强度高,适合科研与工业应用。

描述

铑丝(Rh Wire)

产品简介

铑丝(Rh Wire)是一种由高纯铑(Purity ≥ 99.9%)制成的贵金属丝材,具有极高的反射率、优异的抗腐蚀性及高温稳定性。铑是铂族金属中最坚硬的成员之一,常用于高温电极、热电偶、真空蒸发源及反光镀层等高精度应用场景。
高纯铑丝在电子、光学和真空技术领域中因其出色的导电与抗氧化性能而被广泛采用。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供的高纯铑丝采用真空熔炼—冷拉—真空退火—抛光工艺制备,保证其高纯度、均匀组织与光洁表面。
产品符合 ASTM B684、ISO 9001 标准,可定制多种直径和长度。

典型规格:

  • 纯度等级:99.9%、99.95%、99.99%

  • 直径范围:0.05 – 2.0 mm

  • 形态:卷丝 / 直丝 / 盘丝

  • 制造工艺:真空熔炼 + 拉丝 + 退火 + 精抛光

  • 表面状态:银白色 / 镜面光亮 / 无氧化层

高纯铑丝在高温下保持优异机械强度和电导性,非常适合苛刻条件下的工业与科研应用。

应用领域

铑丝因其贵金属特性与高稳定性,在以下领域得到广泛应用:

  • 热电偶与高温传感器:用于S型、R型热电偶。

  • 真空蒸发与镀膜:用于高反射金属膜制备。

  • 电极与电化学:用于电解、电极及催化反应。

  • 光学与反射器件:用于红外反射镜和镀层。

  • 高温炉与科研实验:作为高温导线与加热材料。

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.9% – 99.99% 高纯度降低杂质干扰
密度 12.41 g/cm³ 结构致密
熔点 1964 °C 优异高温性能
电导率 10.6 × 10⁶ S/m 稳定导电性能
热导率 150 W/m·K 导热性能优良
硬度 耐磨损、耐腐蚀
抗氧化性 极优 适用于真空及氧化气氛环境

常见问题(FAQ)

问题 答案
铑丝是否具磁性? 无磁性。
是否可用于高温环境? 可长期在1900°C以上稳定工作。
是否可用作电极? 是的,常用于燃料电池与电解反应电极。
是否适合真空蒸发? 是的,广泛用于反射膜制备。
是否支持细丝定制? 可至0.05 mm,用于精密传感器。
是否附检测报告? 每批产品附纯度与尺寸检测报告。
是否符合RoHS/REACH? 完全符合环保标准。
是否支持科研样品? 支持小量与批量供货。
可否抛光处理? 可提供镜面抛光表面。
交货周期? 常规规格2–3周交付。

包装与交付

所有铑丝出厂前均经真空退火与纯度检测。采用真空密封、防氧化、防潮包装,并配防震泡沫与出口级木箱。附RoHS、REACH、COC及材质分析文件。

结论

铑丝(Rh Wire)以其高熔点、强抗氧化性和优良导电性能,被广泛用于高温电极、真空镀膜及电化学系统。
如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com

其他信息

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.