钯丝(Pd)

高纯钯丝具有优异的延展性、导电性与吸氢性能,适用于氢气纯化、电极、电化学与真空系统。纯度可达99.999%,表面光洁、无氧化层,支持科研与工业级定制。

描述

钯丝(Pd Wire)

产品简介

钯丝(Pd Wire)是一种由高纯钯(Purity ≥ 99.95%)制成的贵金属线材,具有优异的化学稳定性、延展性和吸氢性能。钯在常温下即可吸收大量氢气,并保持良好的电导性与抗腐蚀性能,因此被广泛应用于氢气纯化、电极、电化学、催化反应及真空系统中。
高纯钯丝在电子、真空与科研领域中,是兼具功能性与结构性的高端金属材料。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司生产的高纯钯丝采用真空熔炼—冷拉—退火—精抛光工艺制备,产品纯度高、表面光洁、延展性优异。符合 ASTM B540 与 ISO 9001 标准,可提供电子级与科研级版本。

典型规格:

  • 纯度等级:99.95%、99.99%、99.999%

  • 直径范围:0.05 – 2.0 mm

  • 形态:卷丝 / 直丝 / 盘丝

  • 制造工艺:真空熔炼 + 精密拉丝 + 真空退火 + 抛光

  • 表面状态:银白色 / 抛光光亮 / 无氧化层

钯丝具有优良的可塑性和气体吸附性能,可用于高温、高真空及化学反应环境中。

应用领域

钯丝因其独特的化学性质与高纯度,被广泛用于:

  • 氢气纯化与分离:钯可选择性渗透氢,是制氢装置核心材料。

  • 电极与电化学:用于电解电极、燃料电池阳极。

  • 真空与电子设备:用于真空封接、电接触及蒸发源。

  • 催化反应与化学实验:作为催化剂载体或高纯钯源。

  • 半导体制造:用于导电层、键合线与反应材料。

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.95% – 99.999% 高纯度确保稳定化学性能
密度 12.02 g/cm³ 均匀致密结构
熔点 1554 °C 高温下稳定
电导率 9.5 × 10⁶ S/m 良好导电性能
热导率 72 W/m·K 稳定导热性能
延展性 适合精密加工
吸氢比 600–900 倍体积 独特气体吸附性能

常见问题(FAQ)

问题 答案
钯丝能吸氢吗? 是的,可吸收高达自身体积600倍的氢气。
是否可用于电极? 可用于电化学电极及燃料电池阳极。
是否具磁性? 无磁性。
是否可用于真空系统? 可用作真空密封及电极引线。
是否可蒸发镀膜? 是的,常用作真空蒸发源。
是否附检测报告? 提供纯度与成分检测文件。
是否支持小批量? 支持科研样品与批量供货。
是否符合RoHS/REACH? 完全符合国际环保标准。
是否可定制直径? 支持0.05–2.0 mm定制。
交货周期? 常规规格2–3周交付。

包装与交付

所有钯丝出厂前均经纯度检测与真空退火处理。产品采用真空密封、防氧化、防潮包装,线盘外层配防震泡沫和出口级木箱。提供RoHS、REACH、COC及材质检测报告。

结论

钯丝(Pd Wire)以其优异的吸氢性能、耐腐蚀性和化学惰性,被广泛应用于燃料电池、电极、电化学和真空系统,是贵金属功能材料中的重要组成。
如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.