钽丝(Ta)

高纯钽丝(Purity ≥ 99.9%)具有超高熔点、优异的耐腐蚀性与良好的延展性,适用于真空镀膜、电极、高温炉及化学反应系统。支持定制线径与真空包装。

描述

钽丝(Ta Wire)

产品简介

钽丝(Ta Wire)是一种由高纯钽(Purity ≥ 99.9%)制成的高熔点稀有金属丝材,具有极高的耐热性、优异的化学稳定性和良好的延展性。钽在高温下依然保持出色的机械强度与抗氧化性能,被广泛用于真空镀膜、电子元件、电极、加热元件以及化学工业中。

凭借其高熔点(3017°C)和极低的蒸气压,钽丝在真空系统及高温环境中具有极佳的稳定性,是科研与工业制造中的关键材料。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司生产的高纯钽丝采用真空电子束熔炼—冷拉—真空退火—抛光工艺制造。产品晶粒均匀、表面光滑、无裂纹与氧化层,符合 ASTM B365ISO 9001 标准。

典型规格:

  • 纯度等级:99.5%、99.9%、99.95%、99.99%

  • 直径范围:0.05 – 3.0 mm(可定制)

  • 形态:卷丝 / 盘丝 / 直丝

  • 制造工艺:真空熔炼 + 精密拉丝 + 真空退火 + 抛光

  • 表面状态:金属灰色光亮 / 无氧化物 / 光滑致密

钽丝在真空及高温环境下具优异抗氧化性与化学惰性,是蒸发电极、加热元件和离子源线材的理想选择。

应用领域

  • 真空镀膜与蒸发源

  • 电子工业中的电极与电阻丝

  • 高温炉加热元件与结构件

  • 化学反应器与耐腐蚀导线

  • 航空航天与核能系统

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 ≥99.9% 高纯金属钽
密度 16.65 g/cm³ 致密均匀结构
熔点 3017 °C 极高耐温能力
电阻率 13.5 × 10⁻⁸ Ω·m 稳定导电性能
热导率 57 W/m·K 良好导热性
抗拉强度 ≥400 MPa 高强度延展性
延伸率 ≥25% 易加工性良好
磁性 无磁性 适合精密电子设备

常见问题(FAQ)

问题 答案
钽丝能用于真空蒸发吗? 可以,是理想的高温蒸发源线材。
是否具有良好延展性? 是的,可冷拉至极细线径。
是否耐酸碱腐蚀? 具有极高耐腐蚀性,特别耐酸。
是否可定制直径? 可根据需求定制 0.05–3 mm。
是否具磁性? 无磁性。
是否附检测报告? 提供纯度、尺寸与成分检测文件。
是否符合 RoHS/REACH? 是的,完全符合环保标准。
是否适合科研应用? 是,提供科研级与工业级版本。

包装与交付

所有钽丝在出厂前均经真空退火与纯度检测。产品采用真空密封、防氧化、防震包装,并装入防潮泡沫与出口级木箱。附带 RoHS、REACH、COC 及材质检测报告。


钽丝(Ta Wire)简短描述:
高纯钽丝(Purity ≥ 99.9%)具有超高熔点、优异的耐腐蚀性与良好的延展性,适用于真空镀膜、电极、高温炉及化学反应系统。支持定制线径与真空包装。

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.