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锑化锌蒸发材料通常采用高纯锌与高纯锑为原料,通过真空熔炼或固相合成工艺制备形成稳定的 ZnSb 化合物相,并严格控制氧、碳等杂质含量,以确保材料纯度和成分一致性。
纯度等级:99.9%(3N)–99.99%(4N),适用于科研及高端薄膜沉积
材料体系:Zn–Sb(锑化物,近化学计量比 ZnSb,可定制)
电学特性:电阻率稳定,载流子浓度可调
成膜一致性:化合物蒸发有助于保持薄膜成分稳定,降低偏析风险
供货形态:颗粒、块状、片状或定制形态,兼容钨舟、钼舟及电子束坩埚
通过合理的材料设计与沉积参数控制,可获得致密、均匀且性能可重复的 ZnSb 薄膜。
锑化锌蒸发材料在多个功能薄膜与半导体相关领域中具有典型应用,包括:
热电材料与器件:ZnSb 基热电薄膜
半导体薄膜沉积:功能化合物层、界面工程层
电子与微电子器件:电阻调控层、功能半导体薄膜
光电与传感器薄膜:功能响应层
科研与实验室应用:锑化物相结构、电学与输运性能研究
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 材料体系 | Zn–Sb(锑化物) | 决定电学与热电性能 |
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 影响薄膜缺陷与可靠性 |
| 形态 | 颗粒 / 块状 / 片状 | 适配不同蒸发源 |
| 尺寸范围 | 1 – 10 mm(颗粒)或定制 | 影响蒸发速率与均匀性 |
| 蒸发方式 | 热蒸发 / 电子束蒸发 | 兼容主流 PVD 系统 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| 锑化锌蒸发材料(ZnSb) | 化学计量稳定、热电性能 | 热电与功能半导体薄膜 |
| 纯锌(Zn) | 易蒸发 | 金属与功能薄膜 |
| 纯锑(Sb) | 半金属性 | 半导体与化合物薄膜 |
| 锑化镍(NiSb) | 电学特性差异 | 功能锑化物研究 |
Q1:ZnSb 蒸发材料适合哪种沉积方式?
A:适用于热蒸发和电子束蒸发,尤其适合锑化物与热电薄膜制备。
Q2:ZnSb 薄膜的主要优势是什么?
A:化学计量稳定、电学与热电性能可调,适合功能半导体应用。
Q3:材料成分可以定制吗?
A:可以,可根据器件或研究需求定制 Zn/Sb 比例。
Q4:是否适合连续或批量蒸发?
A:适合,在合理工艺条件下蒸发稳定、重复性良好。
Q5:是否存在成分偏析问题?
A:相较多源共蒸发,化合物蒸发更有利于成分一致性控制。
Q6:膜层附着力如何?
A:对玻璃、硅及多种基底具有良好附着性能。
Q7:是否可用于多层或异质结构?
A:可以,常作为功能层或中间化合物层使用。
Q8:科研中常见研究方向有哪些?
A:锑化物热电性能、载流子输运及界面效应研究。
所有锑化锌蒸发材料在出厂前均经过成分、尺寸与外观检测,并贴附唯一可追溯标签。产品采用真空密封包装,结合防震缓冲材料与出口级包装方案,确保在运输与储存过程中保持高纯度与稳定性能。
锑化锌蒸发材料(ZnSb)凭借其稳定的化学计量、良好的电学与热电可调性以及成熟的化合物蒸发工艺表现,在热电与功能半导体薄膜领域展现出重要应用价值。对于需要成分稳定、性能可控及高重复性沉积的真空蒸发应用,ZnSb 是一种兼顾科研深度与工程可行性的优选蒸发材料。
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