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硒化锌蒸发材料通常采用高纯锌与高纯硒为原料,通过真空合成或受控熔炼工艺制备形成稳定的 Zn–Se 化合物相,并在加工与封装过程中严格控制氧、水分及金属杂质含量,以确保蒸发过程中的化学计量稳定性与成膜一致性。
纯度等级:99.9%(3N)–99.99%(4N),适用于光学与功能薄膜沉积
材料体系:Zn–Se(Ⅱ–Ⅵ族化合物半导体,近化学计量比 ZnSe)
光学特性:可见光至中远红外波段高透过率
电学特性:宽带隙半导体,电学损耗低
成膜优势:化合物单源蒸发,有利于保持 Zn/Se 同步沉积
供货形态:颗粒、块状、片状或定制形态,兼容钼舟、钨舟及电子束坩埚
通过优化蒸发速率、基底温度与后处理工艺,可获得表面致密、光学均匀性优异的 ZnSe 薄膜。
硒化锌蒸发材料在光学与光电领域具有极为典型的应用,包括:
红外光学镀膜:红外窗口、透镜及保护膜
激光与光学器件:CO₂ 激光系统相关薄膜
光电与显示技术:光学功能层与透明薄膜
半导体与探测器:Ⅱ–Ⅵ族异质结构研究
科研与实验室应用:能带结构、缺陷与光学常数研究
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 材料体系 | Zn–Se(Ⅱ–Ⅵ族) | 决定光学与电学性能 |
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 影响吸收损耗与稳定性 |
| 晶体结构 | 闪锌矿结构 | ZnSe 典型结构 |
| 形态 | 颗粒 / 块状 / 片状 | 适配不同蒸发源 |
| 蒸发方式 | 热蒸发 / 电子束蒸发 | 兼容主流 PVD 系统 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| 硒化锌蒸发材料(ZnSe) | 红外透过率高 | 红外光学镀膜 |
| 硫化锌(ZnS) | 机械强度高 | 可见光光学 |
| 硒化镉(CdSe) | 窄带隙 | 光电探测 |
| 硒化锌镉(CdZnSe) | 带隙可调 | 探测与发光器件 |
Q1:ZnSe 蒸发材料适合哪种沉积方式?
A:适用于热蒸发与电子束蒸发,其中电子束蒸发更有利于获得高致密度薄膜。
Q2:ZnSe 的核心应用优势是什么?
A:在可见光至中远红外波段具有优异的透过率和低吸收损耗。
Q3:是否适合光学镀膜应用?
A:非常适合,是红外光学镀膜中最常用的材料之一。
Q4:化学计量比可以定制吗?
A:可以,可根据光学常数或器件需求微调 Zn/Se 比例。
Q5:膜层附着力如何?
A:在玻璃、Si、Ge、ZnSe 基底及多种光学基底上具有良好附着性能。
Q6:是否适合连续蒸发工艺?
A:适合,蒸发过程稳定,材料挥发行为可控。
Q7:是否用于激光系统?
A:是的,ZnSe 广泛用于 CO₂ 激光相关光学组件。
Q8:科研中常见研究方向有哪些?
A:红外光学常数、薄膜缺陷控制、Ⅱ–Ⅵ族异质结构研究。
所有硒化锌蒸发材料在出厂前均经过成分与外观检测,并贴附唯一可追溯标签。产品采用真空密封、防潮、防震缓冲及出口级包装方案,确保在运输与储存过程中保持材料的高纯度、光学性能稳定性与使用可靠性。
硒化锌蒸发材料(ZnSe)凭借其卓越的红外透明性、成熟稳定的Ⅱ–Ⅵ族材料体系以及优异的光学成膜表现,在红外光学镀膜与光电功能薄膜领域长期处于核心地位。对于需要制备高质量红外透过膜、激光光学薄膜或开展Ⅱ–Ⅵ族半导体研究的真空蒸发应用,ZnSe 是一类科研与工程实践高度成熟、可靠性极高的关键蒸发材料选择。
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