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氟化锂蒸发材料采用高纯锂源与氟源，经受控反应与高温合成工艺制备形成稳定的 Li–F 化合物相（LiF）。在原料合成、纯化、粉体处理与封装全过程中，严格控制水分、氧及杂质含量，以确保蒸发过程中化学计量稳定、蒸发行为可预测、薄膜光学性能具有高度一致性。
纯度等级：99.9%（3N）–99.99%（4N）
材料体系：Li–F（碱金属氟化物，LiF）
光学特性：极低折射率，优异紫外透过性（VUV–可见光）
化学特性：结构简单，成分单一
成膜优势：蒸发速率稳定，膜层光学性能可精确调控
供货形态：颗粒、块状、压片或定制形态，适配钼舟、钨舟及电子束坩埚
通过精确控制蒸发速率与基底温度，可获得低缺陷、低散射、界面清晰的 LiF 薄膜。
氟化锂蒸发材料在高端光学与功能薄膜领域具有不可替代的应用价值：
紫外与真空紫外光学镀膜：VUV/DUV 透过膜
光学镀膜：低折射率层、超薄增透膜
光电子与探测器：光阴极与紫外探测器相关膜层
多层光学膜系设计：与 MgF₂、AlF₃、CaF₂ 等材料组合
科研与实验室应用：紫外光学与氟化物材料基础研究
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 材料体系 | Li–F（LiF） | 决定紫外光学性能 |
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 降低紫外吸收与散射 |
| 折射率 | 极低 | 适合 VUV/DUV 光学层 |
| 形态 | 颗粒 / 块状 / 压片 | 适配不同蒸发源 |
| 蒸发方式 | 热蒸发 / 电子束蒸发 | 工艺成熟、可控 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| 氟化锂蒸发材料（LiF） | 极高紫外透过率 | VUV/DUV 光学 |
| 氟化镁（MgF₂） | 稳定性高 | 可见光/UV 增透 |
| 氟化铝（AlF₃） | 紫外稳定性好 | UV 光学膜 |
| 氟化钙（CaF₂） | 红外–紫外兼容 | 光学窗口 |
Q1：LiF 适合哪种蒸发方式？
A：非常适合真空热蒸发，也可用于电子束蒸发，热蒸发应用最为普遍。
Q2：LiF 在光学镀膜中的核心优势是什么？
A：在真空紫外与深紫外波段具有极高透过率和极低折射率。
Q3：LiF 是否容易吸湿？
A：LiF 具有一定吸湿性，需在干燥环境中操作并真空密封保存。
Q4：LiF 薄膜是否稳定？
A：在受控环境下稳定，但不适合长期暴露于高湿环境。
Q5：膜层附着力如何？
A：在石英、MgF₂、CaF₂ 等紫外光学基底上具有良好附着性能。
Q6：是否适合多层光学膜结构？
A：适合，常用于超薄低折射率层或紫外膜系顶部层。
Q7：蒸发过程是否容易控制？
A：蒸发行为明确，但需精确控制水分与功率以保证膜质。
Q8：科研中常见研究方向有哪些？
A：VUV 光学薄膜、紫外探测器、光阴极与氟化物材料研究。
所有氟化锂蒸发材料在出厂前均经严格检测并贴附唯一追溯标签。产品采用真空密封、防潮、防震缓冲及出口级包装方案，最大限度降低吸湿风险，确保材料在运输与储存过程中的高纯度与可用性。
氟化锂蒸发材料（LiF）凭借其无可替代的紫外透过性能、极低折射率以及清晰可控的材料特性，在深紫外与真空紫外光学领域占据核心地位。对于涉及高端紫外光学、光电子器件或基础光学研究的真空蒸发应用，LiF 是一类性能边界明确、专业性极强的蒸发材料选择。
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