碳化钛蒸发材料(TiC)

碳化钛蒸发材料(Titanium Carbide Evaporation Material,TiC)是一种由钛(Ti)与碳(C)组成的高熔点过渡金属碳化物蒸发材料,在真空热蒸发与电子束蒸发(E-beam Evaporation)等 PVD 薄膜沉积工艺中被广泛用于耐磨、耐高温与功能型薄膜的制备。
TiC 兼具高硬度、良好的热稳定性、较高电导率以及优异的化学惰性,在工程应用与科研领域之间形成了极具性价比的材料平衡。

在需要薄膜同时满足机械强化、稳定导电与高温可靠性的应用场景中,碳化钛是一类成熟度高、工艺窗口清晰的蒸发材料选择。

产品详情(Detailed Description)

碳化钛蒸发材料以高纯钛源与高纯碳源为原料,通过受控碳化反应与高温烧结工艺制备形成致密稳定的 Ti–C 化合物相(TiC)。在原料纯化、化学计量控制、晶相稳定与致密化处理全过程中,严格控制氧、氮等杂质含量,以确保蒸发过程中成分稳定、蒸发行为可控、薄膜结构一致性高

  • 纯度等级:99.5% – 99.9%(科研与工程常用)

  • 材料体系:Ti–C(碳化钛,TiC)

  • 物理特性:高硬度、高熔点、优良耐磨性

  • 电学特性:良好导电性,适合功能薄膜

  • 成膜优势:膜层致密、应力可控、稳定性高

  • 供货形态:颗粒 / 块状 / 压片 / 定制形态,适配电子束坩埚及高温蒸发源

由于 TiC 熔点较高,电子束蒸发通常更有利于获得稳定、可重复的沉积过程;在部分工艺窗口下也可采用高功率热蒸发。

应用领域(Applications)

  • 耐磨与硬质涂层:刀具、模具、机械部件表面强化

  • 高温防护薄膜:高温环境下的功能保护层

  • 导电功能薄膜:耐热导电层、电极相关研究

  • 装饰与功能复合膜:深色、金属质感薄膜

  • 多层复合膜系:与 TiN、TiCN、ZrC、VC 等材料组合

  • 科研与实验室应用:过渡金属碳化物薄膜与界面研究

技术参数(Technical Parameters)

参数 典型值 / 范围 重要性说明
化学组成 TiC 决定机械与热学性能
纯度 99.5% – 99.9% 控制薄膜缺陷
熔点 >3000 °C 适合高温应用
电导性 良好 功能与导电薄膜
供货形态 颗粒 / 块状 / 压片 适配高温蒸发设备
蒸发方式 电子束蒸发(推荐) 稳定高熔点材料

相关材料对比(Comparison with Related Materials)

材料 主要优势 典型应用
碳化钛蒸发材料(TiC) 成熟度高、耐磨耐热 工程型硬质薄膜
碳化钒(VC) 高硬度、导电性好 功能耐磨膜
碳化锆(ZrC) 更高温稳定性 高温防护薄膜
氮化钛(TiN) 装饰性与导电性兼顾 装饰/功能膜

常见问题(FAQ)

Q1:TiC 适合哪种沉积方式?
A:推荐电子束蒸发;在合适功率条件下也可使用高功率热蒸发。

Q2:TiC 薄膜的核心优势是什么?
A:高硬度、耐磨性强,同时具备良好导电与热稳定性能。

Q3:是否适合高温环境应用?
A:是的,TiC 在高温条件下结构稳定。

Q4:是否可用于导电薄膜?
A:可以,常用于耐热导电或功能层研究。

Q5:膜层附着力如何?
A:在金属、Si、陶瓷等基底上具有良好附着性能。

Q6:是否可与其他材料形成复合膜?
A:可以,常用于多层或梯度结构设计。

Q7:蒸发过程中是否容易飞溅?
A:在合理控制电子束功率与升温速率下,蒸发过程稳定。

Q8:应用更偏科研还是工程?
A:兼顾科研探索与工程型功能薄膜应用。

包装与交付(Packaging)

所有碳化钛蒸发材料在出厂前均经过成分与外观检测,并贴附唯一可追溯标签。产品采用真空密封、防潮、防震缓冲与出口级包装方案,确保运输与储存过程中材料的成分稳定性与使用可靠性

结论(Conclusion)

碳化钛蒸发材料(TiC)凭借其成熟可靠的材料体系、优异的耐磨与高温性能以及良好的导电特性,在硬质功能薄膜与工程型应用中保持长期稳定需求。对于需要在高温或高磨损环境下实现结构强化与功能集成的真空蒸发薄膜制备,TiC 是一类性能均衡、工艺成熟、应用面极广的专业蒸发材料选择

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