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氧化锆蒸发材料采用高纯氧化锆粉体，经精确配料、成形与高温烧结制备，确保材料致密、化学计量稳定并适合高能束流沉积环境。
化学组成：ZrO₂
纯度范围：99.9% – 99.99%（3N–4N）
材料形态：块状、颗粒状、定制尺寸
制造工艺：高纯粉体 → 成形 → 高温烧结
表面状态：致密、低吸附，适合高真空蒸发
高品质 ZrO₂ 蒸发材料可有效：
提升薄膜致密度与厚度均匀性；
保证光学与介电性能的一致性；
降低蒸发过程中的成分波动；
延长蒸发源与设备使用寿命。
光学镀膜：高折射率层、反射与增透膜
电子与介电薄膜：绝缘层、缓冲层、界面工程
高温防护涂层：耐热、耐腐蚀功能层
传感与功能器件：稳定氧化物功能薄膜
科研实验：相结构、薄膜应力与物性研究
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 化学组成 | ZrO₂ | 决定薄膜结构与性能 |
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 降低杂质缺陷 |
| 形态 | 块状 / 颗粒 / 定制 | 适配不同蒸发源 |
| 熔点 | ~2715 °C | 适合高温蒸发 |
| 适用工艺 | 电子束蒸发 / 高温热蒸发 | 高熔点氧化物优选 |
| 包装方式 | 真空密封 | 防止吸湿与污染 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| 氧化锆（ZrO₂） | 高熔点、高稳定性 | 光学与高温薄膜 |
| 氧化钇锆（YZrO/YSZ） | 相稳定、离子导电 | SOFC、电解质层 |
| 氧化铝（Al₂O₃） | 工艺成熟 | 通用保护与介电层 |
| 氧化钛（TiO₂） | 高折射率 | 光学功能薄膜 |
Q1：ZrO₂ 蒸发材料适合哪种蒸发方式？
A：推荐电子束蒸发（E-beam），也可用于高温热蒸发。
Q2：ZrO₂ 薄膜适合高温应用吗？
A：非常适合，具有优异的热稳定性与耐腐蚀性。
Q3：ZrO₂ 的光学性能如何？
A：折射率高，常用于光学功能层与多层膜结构。
Q4：是否可用于反应蒸发？
A：可以，在受控气氛下可实现特定结构或性能调控。
Q5：颗粒尺寸会影响蒸发稳定性吗？
A：会，均匀尺寸有助于稳定蒸发速率与膜厚控制。
Q6：ZrO₂ 薄膜致密度如何提升？
A：通过提高沉积能量、优化真空度与基底温度实现。
Q7：是否适合科研级应用？
A：非常适合，是氧化物薄膜研究中的常用材料。
Q8：材料如何储存？
A：建议真空密封保存，避免吸湿。
Q9：是否支持定制规格？
A：支持，可根据蒸发设备与工艺需求定制。
Q10：与 YSZ 有何区别？
A：YSZ 通过掺杂 Y₂O₃ 稳定晶相并提升离子导电性；ZrO₂ 更偏向光学与结构稳定应用。
所有氧化锆蒸发材料在出厂前均经过严格检测并建立批次追溯。产品采用真空密封、防震缓冲与出口级包装，确保运输与储存过程中保持材料洁净度与性能稳定。
氧化锆蒸发材料（ZrO₂）以其卓越的高温稳定性、化学惰性和光学性能，在光学薄膜、电子介质与高温防护领域中具有长期可靠的应用价值。对于追求高一致性、高可靠性与耐久性的薄膜沉积需求，ZrO₂ 是一种成熟、稳健的功能氧化物蒸发材料选择。
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