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氧化镍蒸发材料采用高纯 NiO 原料,经精确成形与高温烧结制备,确保材料致密、化学计量稳定,满足高真空蒸发与高能束流沉积需求。
化学组成:NiO
纯度范围:99.9% – 99.99%(3N–4N)
材料形态:块状、颗粒状、定制尺寸
制造工艺:高纯粉体 → 成形 → 高温烧结
表面状态:致密、低吸附,适合高真空蒸发
高质量 NiO 蒸发材料有助于:
提升薄膜致密度与厚度均匀性;
稳定获得 p 型导电特性;
改善界面能级匹配与器件一致性;
延长蒸发源与设备使用寿命。
透明电子与光电子:空穴传输层(HTL)、功能氧化物薄膜
太阳能电池:钙钛矿与有机太阳能的空穴选择层
电化学与能源器件:电极与功能氧化物层
传感器与功能电子:气体与电化学传感薄膜
科研实验:p 型氧化物、能带与界面工程研究
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 化学组成 | NiO | 决定导电与界面性能 |
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 降低杂质与缺陷 |
| 形态 | 块状 / 颗粒 / 定制 | 适配不同蒸发源 |
| 熔点 | ~1955 °C | 适合高温蒸发 |
| 适用工艺 | 电子束蒸发 / 高温热蒸发 | 兼容主流 PVD |
| 包装方式 | 真空密封 | 防止吸湿与污染 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| 氧化镍(NiO) | p 型、稳定 | HTL 与功能薄膜 |
| 氧化铜(CuO/Cu₂O) | p 型 | 电子与传感薄膜 |
| 氧化锌(ZnO) | n 型、透明 | 透明电子 |
| 氧化钴(CoO/Co₃O₄) | 多价态 | 电化学与催化 |
Q1:NiO 蒸发材料适合哪种蒸发方式?
A:推荐电子束蒸发,也可在高温条件下进行热蒸发。
Q2:NiO 薄膜是 p 型半导体吗?
A:是的,NiO 是经典 p 型氧化物半导体。
Q3:NiO 适合用于太阳能电池吗?
A:适合,常用作钙钛矿和有机太阳能的空穴传输层。
Q4:沉积过程中是否需要控制氧分压?
A:建议控制,以确保薄膜化学计量与导电特性稳定。
Q5:NiO 薄膜是否透明?
A:在可见光区具有较高透过率,适合透明器件结构。
Q6:颗粒尺寸会影响蒸发稳定性吗?
A:会,均匀颗粒有助于稳定蒸发速率与膜厚控制。
Q7:是否适合科研级应用?
A:非常适合,是 p 型氧化物研究的常用材料。
Q8:材料如何储存?
A:建议真空密封保存,避免吸湿与污染。
Q9:是否支持定制规格?
A:支持,可根据蒸发设备与工艺需求定制。
Q10:是否可提供掺杂型 NiO?
A:可提供 Li、Cu 等掺杂体系以调控电学性能。
所有氧化镍蒸发材料(NiO)在出厂前均经过严格质量检测,并建立完整批次追溯体系。产品采用真空密封、防震缓冲及出口级包装,确保运输与储存过程中材料洁净度与性能稳定。
氧化镍蒸发材料(NiO)凭借其稳定的 p 型导电特性、良好的光学透明性与成熟的工艺适配性,在透明电子、光电器件与能源材料领域中具有长期可靠的应用价值。对于追求高一致性、高可靠性与可控界面性能的薄膜沉积需求,NiO 是一种成熟、稳健且应用广泛的功能氧化物蒸发材料选择。
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