氧化钼蒸发材料（MoO₃）

产品详情（Detailed Description）

氧化钼蒸发材料采用高纯 MoO₃ 粉体，经精确成形与致密化处理，确保材料纯净、升华稳定，适用于高真空蒸发环境。

• 化学组成：MoO₃

• 纯度范围：99.9% – 99.99%（3N–4N）

• 材料形态：块状、颗粒状、定制尺寸

• 制造工艺：高纯粉体 → 成形 → 致密化处理

• 蒸发特性：低温升华、速率稳定

高质量 MoO₃ 蒸发材料可有效：

• 提升界面能级匹配与载流子注入效率；

• 改善薄膜致密度与厚度均匀性；

• 降低器件起始电压与功耗；

• 提高有机与无机复合器件的长期稳定性。

应用领域（Applications）

• 有机电子与光电器件：OLED、OPV、OTFT 的 HIL/HTL

• 钙钛矿与叠层器件：界面调控与载流子选择层

• 透明电子与显示技术：功能氧化物界面层

• 传感与功能薄膜：表面电性与化学响应调控

• 科研实验：能级工程、界面物理与薄膜机理研究

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ — 聚焦应用）

Q1：MoO₃ 适合哪种蒸发方式？
A：非常适合热蒸发，也可用于电子束蒸发。

Q2：MoO₃ 在 OLED 中的作用是什么？
A：作为空穴注入/传输层，改善能级匹配并提升效率。

Q3：MoO₃ 薄膜厚度通常多大？
A：常见为 1–10 nm，用于界面调控。

Q4：沉积过程中需要引入氧气吗？
A：通常不需要，保持高真空即可获得稳定薄膜。

Q5：MoO₃ 薄膜是否透明？
A：在可见光区具有良好透明性，适合光电器件。

Q6：颗粒尺寸会影响蒸发稳定性吗？
A：会，均匀颗粒有助于稳定蒸发速率。

Q7：是否适合科研级应用？
A：非常适合，是界面工程研究的常用材料。

Q8：材料如何储存？
A：建议真空密封、避光保存，防止吸湿与还原。

Q9：是否支持定制规格？
A：支持，可根据蒸发舟或坩埚定制。

Q10：是否可提供其他钼基氧化物？
A：可提供 WO₃、V₂O₅ 等多种过渡金属氧化物。

包装与交付（Packaging）

所有氧化钼蒸发材料（MoO₃）在出厂前均经过严格质量检测并建立批次追溯。采用真空密封、防震缓冲与出口级包装，确保运输与储存过程中材料纯度与蒸发性能稳定。

结论（Conclusion）

氧化钼蒸发材料（MoO₃）凭借其高功函数、低温可控蒸发与卓越的界面调控能力，在有机电子、光电器件与先进界面工程中具有不可替代的价值。对于追求高效率、高一致性与长期稳定性的薄膜沉积应用，MoO₃ 是一种成熟、可靠且应用广泛的功能氧化物蒸发材料选择。

如需了解更多技术参数或获取报价，请联系：
sales@keyuematerials.com