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氧化镁蒸发材料选用高纯镁源制备的 MgO 粉体,经精确成形与高温烧结工艺处理,确保材料致密、化学计量稳定,适用于高真空和高能束流沉积环境。
化学组成:MgO
纯度范围:99.9% – 99.99%(3N–4N)
材料形态:块状、颗粒状、定制尺寸
制造工艺:高纯粉体 → 成形 → 高温烧结
表面状态:致密、低吸附,适合高真空蒸发
高质量 MgO 蒸发材料有助于:
提高薄膜的结晶质量与致密度;
保证优异的电绝缘与耐压性能;
改善界面质量与器件一致性;
适配高温或高功率沉积工况。
磁性与自旋电子学:磁性隧穿结(MTJ)绝缘层
半导体与微电子:高绝缘介质层、缓冲与界面层
光学镀膜:透明介质层、保护与功能光学薄膜
高温与耐化学涂层:稳定防护层
科研实验:晶格匹配、界面与薄膜物性研究
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 化学组成 | MgO | 决定绝缘与结构性能 |
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 降低杂质与缺陷 |
| 形态 | 块状 / 颗粒 / 定制 | 适配不同蒸发源 |
| 熔点 | ~2850 °C | 适合高温蒸发 |
| 适用工艺 | 电子束蒸发 / 高温热蒸发 | 高熔点氧化物优选 |
| 包装方式 | 真空密封 | 防止吸湿与污染 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| 氧化镁(MgO) | 高绝缘、晶格匹配好 | MTJ、介质层 |
| 氧化铝(Al₂O₃) | 工艺成熟 | 通用介质与保护层 |
| 氧化钙(CaO) | 碱土氧化物 | 特殊研究用途 |
| 氧化锆(ZrO₂) | 高介电、强度高 | 高介电薄膜 |
Q1:MgO 蒸发材料适合哪种蒸发方式?
A:推荐电子束蒸发,也可在高温条件下进行热蒸发。
Q2:MgO 薄膜的典型应用是什么?
A:最典型应用是磁性隧穿结(MTJ)中的绝缘隧穿层。
Q3:MgO 薄膜是否透明?
A:是的,在可见光区具有很高的透过率。
Q4:MgO 是否适合高温工艺?
A:非常适合,具有极高的热稳定性。
Q5:颗粒尺寸会影响蒸发稳定性吗?
A:会,均匀颗粒有助于稳定蒸发速率与膜厚控制。
Q6:MgO 薄膜的介电性能如何?
A:介电性能优异,绝缘性强、击穿电压高。
Q7:是否适合科研级应用?
A:非常适合,是界面与自旋电子学研究中的关键材料。
Q8:材料如何储存?
A:建议真空密封保存,避免吸湿和表面碳酸化。
Q9:是否支持定制规格?
A:支持,可根据蒸发设备和工艺需求定制。
Q10:是否可提供其他碱土金属氧化物?
A:可提供 CaO、SrO 等多种相关氧化物蒸发材料。
所有氧化镁蒸发材料(MgO)在出厂前均经过严格质量检测,并建立完整批次追溯体系。产品采用真空密封、防震缓冲与出口级包装,确保运输与储存过程中材料洁净度与蒸发性能稳定。
氧化镁蒸发材料(MgO)凭借其极高的热稳定性、优异的电绝缘性能与出色的晶格匹配能力,在磁性隧穿结、半导体介质层及高端功能薄膜领域中占据不可替代的地位。对于追求高一致性、高可靠性与高性能界面的薄膜沉积应用,MgO 是一种成熟、专业且广泛应用的氧化物蒸发材料选择。
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