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铬钛蒸发材料通常采用高纯铬与高纯钛为原料，通过真空熔炼或合金化烧结工艺制备，确保合金成分分布均匀、组织致密、杂质含量严格受控。
纯度等级：99.9%（3N）–99.99%（4N），满足高端薄膜沉积需求
合金比例：Cr/Ti 比例可按质量比或原子比定制，用于调节薄膜的附着力、应力状态与耐蚀性能
界面性能：钛元素显著提升薄膜与玻璃、Si、氧化物及金属基底之间的结合强度
环境稳定性：铬元素赋予薄膜良好的抗氧化与耐腐蚀能力
供货形态：颗粒、块状、片状或定制形态，适配钨舟、钼舟及电子束坩埚等多种蒸发源
通过合理的合金设计，CrTi 蒸发材料可获得致密、均匀、附着力优良的功能薄膜。
铬钛蒸发材料在多个薄膜沉积与功能涂层领域中具有典型应用，包括：
半导体薄膜沉积：粘附层、扩散阻挡或功能过渡层
光学镀膜：金属反射膜、功能中间层
电子与微电子器件：功能金属层、界面稳定层
表面工程与防护涂层：耐蚀、耐环境薄膜
科研与实验室应用：合金薄膜、界面与应力调控研究
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 合金成分 | Cr–Ti（比例可定制） | 决定附着力与耐环境性能 |
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 影响薄膜缺陷与可靠性 |
| 形态 | 颗粒 / 块状 / 片状 | 适配不同蒸发源 |
| 尺寸范围 | 1 – 10 mm（颗粒）或定制 | 影响蒸发速率与均匀性 |
| 蒸发方式 | 热蒸发 / 电子束蒸发 | 兼容主流真空系统 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| 铬钛蒸发材料（CrTi） | 附着力强、耐蚀性好 | 粘附与过渡层 |
| 纯铬（Cr） | 抗氧化、耐腐蚀 | 防护与装饰薄膜 |
| 纯钛（Ti） | 附着力优异 | 粘附与过渡层 |
| 铬钒（CrV） | 结构稳定 | 功能金属薄膜 |
Q1：CrTi 蒸发材料适合哪种沉积方式？
A：适用于热蒸发和电子束蒸发工艺，尤其适合作为粘附层和功能过渡层。
Q2：CrTi 薄膜的主要优势是什么？
A：兼具优异附着力与良好的耐腐蚀、抗氧化性能。
Q3：合金比例可以定制吗？
A：可以，根据附着力、应力或环境稳定性需求定制 Cr/Ti 比例。
Q4：与纯钛粘附层相比有何不同？
A：CrTi 在保持良好附着力的同时，提升了薄膜的耐环境稳定性。
Q5：是否适合连续或批量蒸发？
A：适合，蒸发行为稳定，工艺重复性高。
Q6：膜层附着力表现如何？
A：对玻璃、硅、氧化物及多种金属基底均具有优良附着性能。
Q7：是否可用于多层或复合薄膜结构？
A：可以，常作为功能层或中间过渡层使用。
Q8：科研应用中常见用途有哪些？
A：界面工程、薄膜应力控制及环境稳定性研究。
所有铬钛蒸发材料在出厂前均经过成分、尺寸与外观检测，并贴附唯一可追溯标签。产品采用真空密封包装，结合防震缓冲材料与出口级包装方案，确保在运输与储存过程中保持高纯度与稳定性能。
铬钛蒸发材料（CrTi）通过将钛的高附着能力与铬的耐腐蚀、抗氧化特性有机结合，为薄膜沉积提供了一种性能均衡、工艺成熟且可靠性高的合金解决方案。对于需要高附着力、环境稳定性与工艺一致性的真空蒸发应用，CrTi 是一种值得信赖的工程级蒸发材料选择。
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