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铝铬蒸发材料通常采用高纯铝与高纯铬为原料，通过真空熔炼或合金化工艺制备，确保合金成分分布均匀、组织致密，并严格控制氧、碳等杂质含量。
纯度等级：99.9%（3N）–99.99%（4N），满足科研与工业级薄膜沉积需求
合金比例：Al/Cr 比例可按质量比或原子比定制，用于调节薄膜的附着力、耐蚀性与内应力
界面性能：铬元素可显著提升薄膜在玻璃、Si、氧化物及多种金属基底上的附着力
环境稳定性：铬赋予薄膜良好的抗氧化与耐腐蚀能力，适合长期服役环境
供货形态：颗粒、块状、片状或定制形态，适配钨舟、钼舟及电子束坩埚等多种蒸发源
通过合理的合金设计与蒸发参数控制，AlCr 蒸发材料可获得致密、均匀、稳定性优良的功能金属薄膜。
铝铬蒸发材料在多个薄膜沉积与功能涂层领域中具有典型应用，包括：
半导体薄膜沉积：粘附层、功能过渡层
电子与微电子器件：功能金属层、界面稳定层
光学与显示镀膜：金属反射层、功能中间层
耐蚀与防护涂层：环境稳定金属薄膜
科研与实验室应用：合金薄膜结构与环境稳定性研究
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 合金成分 | Al–Cr（比例可定制） | 决定附着力与耐环境性能 |
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 影响薄膜缺陷与可靠性 |
| 形态 | 颗粒 / 块状 / 片状 | 适配不同蒸发源 |
| 尺寸范围 | 1 – 10 mm（颗粒）或定制 | 影响蒸发速率与均匀性 |
| 蒸发方式 | 热蒸发 / 电子束蒸发 | 兼容主流真空系统 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| 铝铬蒸发材料（AlCr） | 成膜稳定、耐蚀性好 | 功能与过渡薄膜 |
| 纯铝（Al） | 易沉积、成本低 | 通用金属薄膜 |
| 纯铬（Cr） | 抗氧化、耐腐蚀 | 防护与装饰薄膜 |
| 铬钛（CrTi） | 附着力更强 | 高可靠性粘附层 |
Q1：AlCr 蒸发材料适合哪种沉积方式？
A：适用于热蒸发和电子束蒸发工艺，广泛用于功能金属与过渡层薄膜制备。
Q2：AlCr 薄膜的主要优势是什么？
A：在保持良好成膜均匀性的同时，显著提升薄膜的耐腐蚀与界面稳定性。
Q3：合金比例可以定制吗？
A：可以，根据附着力、耐蚀性或应力控制需求定制 Al/Cr 比例。
Q4：与纯铝薄膜相比有何不同？
A：AlCr 在环境稳定性和长期可靠性方面明显优于纯铝。
Q5：是否适合连续或批量蒸发？
A：适合，蒸发过程稳定，工艺重复性高。
Q6：膜层附着力表现如何？
A：对玻璃、硅、氧化物及多种金属基底具有良好附着性能。
Q7：是否可用于多层或复合薄膜结构？
A：可以，常作为功能层或中间过渡层使用。
Q8：科研应用中常见用途有哪些？
A：合金薄膜界面行为、耐蚀性与结构稳定性研究。
所有铝铬蒸发材料在出厂前均经过成分、尺寸与外观检测，并贴附唯一可追溯标签。产品采用真空密封包装，结合防震缓冲材料与出口级包装方案，确保在运输与储存过程中保持高纯度与稳定性能。
铝铬蒸发材料（AlCr）通过将铝的成熟成膜特性与铬的耐腐蚀、抗氧化优势相结合，为电子、半导体与光学薄膜提供了一种工艺成熟、性能均衡且可靠性高的合金蒸发材料解决方案。对于需要环境稳定性、界面可靠性与量产一致性的真空蒸发应用，AlCr 是一种值得信赖的工程级材料选择。
如需了解更多技术参数或获取报价，请联系：sales@keyuematerials.com
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