钒蒸发材料（V）

产品简介（Introduction）

钒（Vanadium，V）是一种重要的过渡金属材料，具有良好的高温稳定性、优异的化学活性以及独特的电学与结构调控能力。在真空薄膜沉积领域，钒蒸发材料被广泛应用于金属薄膜、反应性氧化物/氮化物薄膜以及功能材料研究，是科研与工业真空镀膜体系中的重要基础材料之一。

在热蒸发与电子束蒸发（E-beam Evaporation）工艺中，钒能够形成致密、均匀、附着力良好的薄膜，并可通过反应蒸发制备多种功能化合物薄膜，如 VOₓ、VN 等。

产品详情（Detailed Description）

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度钒蒸发材料，采用真空熔炼、精密切割与严格杂质控制工艺，确保材料具有稳定的蒸发速率、低气体释放率和优良的薄膜重复性，满足高端科研与工业镀膜需求。

可提供形式

• 钒颗粒 / 钒柱（V Pellets / Cylinders）

• 钒块 / 钒片（V Pieces / Chunks）

• 钒丝（V Wire）

• 定制蒸发形态（匹配舟、坩埚或 E-beam 蒸发源）

典型规格

• 纯度等级：99.5% / 99.9% / 99.99%

• 颗粒尺寸：Ø1–3 mm / Ø3–6 mm

• 丝径范围：Ø0.5–2.0 mm

• 表面状态：清洁、低氧化、无油污

• 包装方式：真空密封或惰性气体保护

材料特点

• 熔点高（≈1910 °C），适合高温蒸发

• 蒸发过程稳定，速率可控

• 膜层致密、附着力强

• 适合反应蒸发制备氧化物/氮化物薄膜

• 杂质与气体释放率低，适合高真空环境

应用领域（Applications）

1. 真空蒸发与薄膜沉积

钒蒸发材料主要用于：

• 金属钒薄膜沉积

• 电子束蒸发与热蒸发

• 多层功能薄膜结构中的金属层

2. 反应蒸发与功能化合物薄膜

通过反应气氛控制，钒可用于制备：

• 氧化钒（VOₓ）薄膜

• 氮化钒（VN）薄膜

• 功能电致变色与相变材料

3. 光学与功能薄膜

• 功能过渡层

• 光学调控薄膜

• 多层光学膜结构

4. 半导体与电子材料

• 功能金属层

• 接触层与界面调控层

5. 科研与新材料研究

• 相变材料研究

• 电致变色与智能窗薄膜

• 功能氧化物材料探索

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

• 真空密封或惰性气体保护包装

• 内部防震、防污染处理

• 外层出口级包装

• 提供材质证明与纯度检测报告

确保材料在运输与储存过程中保持高纯度与稳定性。

结论（Conclusion）

钒蒸发材料（V）凭借其良好的高温稳定性、反应蒸发兼容性以及在功能氧化物与氮化物薄膜中的关键作用，是薄膜沉积、光学镀膜、半导体制造及前沿材料研究中的重要材料。苏州科跃材料可提供多形态、高纯度的钒蒸发材料，满足科研与工业级应用需求。

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