钛蒸发材料(Ti)

钛(Titanium,Ti)是一种应用极为广泛的过渡金属材料,具有高强度-重量比、优异的耐腐蚀性能、良好的化学稳定性以及出色的薄膜附着能力。在真空蒸发与物理气相沉积(PVD)工艺中,钛蒸发材料被广泛用于制备 金属薄膜、粘附层、阻挡层、功能过渡层以及反应沉积薄膜(如 TiO₂、TiN)

作为蒸发材料,钛在高真空条件下表现出稳定的蒸发行为,适用于电子束蒸发(E-beam)、电阻蒸发与热蒸发工艺,是科研与工业薄膜制备中最基础、最可靠的金属材料之一。

产品详情(Detailed Description)

苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯度、多形态、规格可定制的钛蒸发材料,适配各类真空蒸发设备与工艺需求。

● 可提供形式

  • 纯度:99.9%(3N)– 99.99%(4N)

  • 材料形态

    • 颗粒(Pellets / Granules)

    • 块状(Pieces / Chunks)

    • 丝材(Wire)

    • 锭料(Ingot)

    • 定制形态(匹配舟、坩埚或 E-beam 炉)

  • 典型尺寸:1–3 mm、3–6 mm、定制尺寸

  • 加工工艺:真空熔炼、锻造、精密切割

  • 包装方式:真空密封或惰性气体保护

● 材料特性

  • 薄膜附着力极佳,常用作粘附层

  • 化学稳定性好,耐腐蚀性能优异

  • 可作为反应蒸发前驱材料(TiO₂、TiN、TiC)

  • 蒸发过程可控性高,成膜均匀

  • 与多种基底(玻璃、Si、金属、聚合物)兼容


应用领域(Applications)

钛(Ti)蒸发材料广泛应用于以下领域:

1. 粘附层与过渡层(Adhesion / Buffer Layers)

作为 Au、Ag、Pt 等贵金属薄膜的底层,提高膜层附着力。

2. 金属与功能薄膜

用于制备导电层、保护层及结构薄膜。

3. 反应蒸发与反应沉积

在氧气或氮气环境下形成 TiO₂、TiN 等功能薄膜。

4. 半导体与微电子

用于电极过渡层、阻挡层及器件结构薄膜。

5. 光学与装饰镀膜

用于光学膜系中的金属层或结构调控层。

6. 科研与新材料开发

用于材料表面工程、薄膜机理与工艺研究。


技术参数(Technical Parameters)

参数 典型范围 说明
纯度 3N–4N 高纯度降低杂质引入
形态 颗粒 / 块状 / 丝材 适配不同蒸发源
粒径 1–6 mm 有利于稳定蒸发
蒸发方式 热蒸发 / 电子束蒸发 工艺成熟
包装 真空 / 惰性气体 防止表面氧化

相关材料对比(Comparison with Related Materials)

材料 特点 典型应用
Ti 附着力强、稳定性高 粘附层、功能薄膜
Cr 附着力好、成本低 粘附层
Ta 高熔点、高稳定性 阻挡层
Al 易蒸发、成本低 导电层

常见问题(FAQ)

问题 答案
钛蒸发材料适合哪种蒸发方式? 适合电子束蒸发和热蒸发。
钛是否容易氧化? 是,建议真空或惰性气体保存。
是否可用于反应蒸发? 可以,常用于制备 TiO₂、TiN 薄膜。
是否提供丝材或定制形态? 提供,可按设备需求定制。
是否适合半导体工艺? 是,钛是成熟的半导体基础材料。
是否可提供成分检测报告? 可按需提供 ICP 等检测文件。

包装与交付(Packaging)

  • 真空密封或惰性气体封装

  • 防震缓冲包装

  • 独立批次标签,便于追溯

  • 出口级纸箱或木箱

  • 支持科研小批量与工业批量供货


结论(Conclusion)

钛蒸发材料(Ti)凭借其卓越的薄膜附着性能、稳定的蒸发行为与广泛的工艺兼容性,是光学镀膜、半导体制造与功能薄膜制备中不可替代的基础材料。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯度、多形态、可定制的钛蒸发材料,为科研与工业客户提供稳定可靠的真空蒸发解决方案。

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📧 sales@keyuematerials.com