铑蒸发材料(Rh)

铑(Rhodium,Rh)是一种极具价值的铂族贵金属,具有极高的化学稳定性、优异的耐腐蚀性能、良好的导电性以及卓越的高温与高真空可靠性。在真空蒸发与物理气相沉积(PVD)工艺中,铑蒸发材料被广泛用于制备 高稳定电极薄膜、光学反射层、耐腐蚀功能涂层以及高端半导体与光电器件中的关键金属层

作为蒸发材料,铑在高真空条件下表现出稳定、可控的蒸发行为,尤其适用于 电子束蒸发(E-beam) 工艺,是对薄膜纯净度、致密性和长期稳定性要求极高应用中的理想选择。

产品详情(Detailed Description)

苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯度、高一致性的铑蒸发材料,满足科研级与工业级真空蒸发系统的严格需求。

● 可提供形式

  • 纯度:99.9%(3N)– 99.99%(4N)

  • 材料形态

    • 颗粒(Pellets / Granules)

    • 小块(Pieces / Chunks)

    • 小锭(Mini Ingots)

    • 定制形态(匹配电子束坩埚或蒸发源)

  • 典型尺寸:1–3 mm、3–6 mm(支持定制)

  • 加工工艺:真空熔炼、粉末冶金、精密切割

  • 表面状态:银白色至浅灰色金属光泽,致密坚硬

  • 包装方式:真空密封或惰性气体保护

● 材料特性

  • 熔点高(≈1964 °C),适合高功率蒸发

  • 抗氧化、抗酸碱腐蚀能力极强

  • 薄膜致密、附着力优异

  • 电学与光学性能长期稳定

  • 在高温、高真空环境中可靠性突出


应用领域(Applications)

铑(Rh)蒸发材料主要应用于以下领域:

1. 高稳定性电极与接触层

用于半导体器件、电化学系统及精密电子结构中的电极薄膜。

2. 光学与反射薄膜

作为高反射率金属层,用于高端光学器件和特殊反射结构。

3. 耐腐蚀与高温功能涂层

适用于严苛化学环境与高温工况下的薄膜保护层。

4. 催化与功能界面薄膜

用于催化研究、电化学界面及相关功能薄膜制备。

5. 科研与前沿材料研究

用于铂族金属薄膜、界面工程及高可靠性材料研究。


技术参数(Technical Parameters)

参数 典型范围 说明
纯度 3N–4N 高纯度确保薄膜性能稳定
形态 颗粒 / 块状 / 定制 适配不同蒸发源
粒径 1–6 mm 适合电子束稳定蒸发
蒸发方式 电子束蒸发 / 高温热蒸发 高功率工艺适用
包装 真空 / 惰性气体 防止表面污染

相关材料对比(Comparison with Related Materials)

材料 主要特点 典型应用
Rh 极高稳定性、耐腐蚀 电极、功能薄膜
Ru 熔点更高 半导体电极
Pt 化学惰性强 催化、电极
Ir 高温性能突出 高温电极

常见问题(FAQ)

问题 答案
铑蒸发材料适合哪种蒸发方式? 主要适合电子束蒸发,也可用于高温热蒸发。
铑是否容易氧化? 常温下非常稳定,高温蒸发需高真空环境。
是否适合高端半导体或光电应用? 是,Rh 常用于高可靠性器件。
是否支持小颗粒规格? 支持 1–3 mm 颗粒。
是否可定制形态? 可根据 E-beam 蒸发源结构定制。
是否可提供检测报告? 可按需提供 ICP、GDMS 等检测文件。

包装与交付(Packaging)

  • 真空密封或惰性气体封装

  • 防震缓冲包装

  • 独立批次标签,便于追溯

  • 出口级纸箱或木箱

  • 适合科研小批量与工业稳定供货


结论(Conclusion)

铑蒸发材料(Rh)凭借其卓越的化学稳定性、高温可靠性及优异的薄膜性能,在高稳定电极、耐腐蚀功能涂层以及高端光电与半导体器件领域中具有不可替代的地位。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯度、多形态、可定制的铑蒸发材料,为科研与高端制造提供稳定、可靠的材料解决方案。

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