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镧蒸发材料选用高纯金属镧原料,经真空精炼与惰性气氛加工制备,严格控制氧、水与碳等杂质含量,确保在高真空条件下具备可重复的蒸发行为。
纯度范围:99.9% – 99.99%(3N–4N)
材料形态:小块、颗粒、定制尺寸
制造工艺:真空精炼 + 惰性气氛处理
表面状态:低氧化、低吸附,适合真空蒸发
高纯度与洁净表面有助于:
降低蒸发过程中的氧污染与通量波动;
提高薄膜成分一致性与致密度;
改善光学、电学与介电性能稳定性;
提升科研与量产工艺的可重复性。
光学镀膜:高折射率薄膜、抗反射与功能光学层
反应蒸发薄膜:La₂O₃ 等稀土氧化物薄膜
半导体与微电子:高介电常数(High-k)薄膜、界面层
显示与光电器件:功能调控层与电极相关薄膜
科研实验:稀土功能材料与界面工程研究
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 确保薄膜性能与一致性 |
| 形态 | 块状 / 颗粒 / 定制 | 适配不同蒸发源 |
| 单颗粒尺寸 | 可定制 | 影响蒸发速率与通量稳定 |
| 熔点 | ~920 °C | 适合中温蒸发 |
| 适用工艺 | 热蒸发 / 电子束蒸发 | 兼容主流 PVD 系统 |
| 包装方式 | 真空密封 | 防止氧化与吸附污染 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| 镧(La)蒸发材料 | 高反应活性、易形成氧化物 | 光学与高-k 薄膜 |
| 钇(Y) | 稳定性好 | 通用稀土氧化物薄膜 |
| 镥(Lu) | 稳定性最高 | 高端光学薄膜 |
| 铈(Ce) | 可变价态 | 抛光与功能氧化物 |
Q1:镧蒸发材料适合哪种蒸发方式?
A:适用于热蒸发和电子束蒸发,常用于反应蒸发体系。
Q2:镧在薄膜中的主要作用是什么?
A:作为稀土金属源,用于形成高折射率或高介电薄膜。
Q3:镧蒸发时对真空要求高吗?
A:是的,建议在高真空条件下使用,以降低氧与水分影响。
Q4:镧薄膜是否容易氧化?
A:相对容易,这也是其常用于制备 La₂O₃ 等氧化物薄膜的原因。
Q5:是否适合反应蒸发制备氧化物?
A:非常适合,是制备稀土氧化物薄膜的常用金属源。
Q6:颗粒尺寸是否影响蒸发稳定性?
A:会,均匀尺寸有助于稳定通量和膜厚控制。
Q7:镧薄膜的光学性能如何?
A:具有良好的折射率调控能力,适合高端光学应用。
Q8:是否适合科研级应用?
A:非常适合,广泛用于稀土与功能材料研究。
Q9:镧蒸发材料如何储存?
A:建议真空或惰性气氛密封保存,避免长期暴露空气。
Q10:是否支持定制规格?
A:支持,可根据设备与工艺需求定制。
所有镧蒸发材料在出厂前均经过严格检测并建立完整批次追溯体系。产品采用真空密封、防震缓冲及出口级包装,确保在运输与储存过程中保持高纯度与稳定性。
镧蒸发材料(La)凭借其良好的反应活性与稀土功能特性,在光学薄膜、高介电薄膜及反应蒸发领域展现出重要价值。对于追求高一致性与高性能薄膜沉积的科研与工程应用,镧蒸发材料是一种成熟且可靠的选择。
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