铟蒸发材料（In）

产品详情（Detailed Description）

铟蒸发材料采用高纯金属铟为原料，经真空熔炼、精炼与洁净成形工艺制备，严格控制杂质元素与表面氧化水平，确保在高真空环境中具备可重复、可控的蒸发性能。

• 纯度范围：99.9% – 99.999%（3N–5N）

• 材料形态：颗粒、小块、片状、定制尺寸

• 制造工艺：真空熔炼 + 精密成形 / 分级

• 表面状态：低氧化、洁净表面，适合直接蒸发

高纯铟蒸发材料能够有效：

• 保证蒸发速率平稳，减少飞溅与污染；

• 提升薄膜厚度与成分均匀性；

• 改善薄膜导电性、透明性与界面结合；

• 提高科研与量产工艺的一致性与良率。

应用领域（Applications）

• 透明导电薄膜：ITO、In₂O₃、In 基氧化物薄膜

• 显示与光电器件：LCD、OLED、触控面板

• 半导体制造：低温金属电极、接触层

• 合金与功能薄膜：InSn、InGa、InZn 等体系

• 科研实验：新型光电材料与界面工程研究

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ — 聚焦应用）

Q1：铟蒸发材料适合哪种蒸发方式？
A：适用于热蒸发与电子束蒸发，尤其适合低温沉积工艺。

Q2：铟在薄膜中的主要作用是什么？
A：提供高导电性与良好界面特性，是透明导电薄膜的关键金属源。

Q3：铟蒸发对真空条件要求高吗？
A：建议在高真空环境下使用，以减少氧化并保证膜层质量。

Q4：铟薄膜容易氧化吗？
A：表面易形成氧化层，但在真空沉积条件下可有效控制。

Q5：可以与其他材料共蒸发吗？
A：可以，常与 Sn、Ga、Zn 等共蒸发制备功能合金或氧化物薄膜。

Q6：颗粒尺寸会影响蒸发效果吗？
A：会，均匀尺寸有助于稳定蒸发速率和膜厚控制。

Q7：铟薄膜的附着力如何？
A：在玻璃、ITO、Si 等基底上均具有良好附着性。

Q8：是否适合科研级应用？
A：非常适合，是显示与光电材料研究中的常用金属源。

Q9：铟蒸发材料如何储存？
A：建议真空密封保存，避免表面氧化与污染。

Q10：是否支持定制规格与高纯度？
A：支持，可提供定制尺寸及 5N 等高纯等级。

包装与交付（Packaging）

所有铟蒸发材料在出厂前均经过严格质量检测，并建立完整的批次追溯体系。产品采用真空密封、防震缓冲与出口级包装，确保在运输与储存过程中保持高纯度与良好表面状态。

结论（Conclusion）

铟蒸发材料（In）凭借其低熔点、优异的导电性能及在透明导电薄膜领域的核心地位，已成为显示、光电与半导体制造中不可或缺的基础材料。对于追求低温工艺、高一致性与高性能薄膜的应用场景，铟蒸发材料是一种成熟、可靠且高价值的选择。

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sales@keyuematerials.com