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钡蒸发材料选用高纯金属钡原料,经真空精炼并在**全流程惰性气氛(Ar)**下成形与封装,严格控制 O、H₂O、N 等杂质,确保在高真空条件下具备稳定、可重复的蒸发行为。
纯度范围:99.5% – 99.99%(2N5–4N)
材料形态:小块、颗粒、定制尺寸
制造工艺:真空精炼 + 惰性气氛成形
表面状态:极低氧化、低吸附,适合快速高效蒸发
高纯钡蒸发材料可有效:
显著降低功函数,提升电子注入效率;
实现稳定、高通量蒸发;
改善界面接触与薄膜均匀性;
满足科研级与器件级对能级工程的精细需求。
重要提示:钡金属活性极高,易与空气和水分剧烈反应。操作、储存与使用须在惰性环境下进行,并严格遵守安全与环保规范。
真空电子器件:阴极发射层、活化层
显示与光电器件:电子注入层(EIL)、界面修饰
反应蒸发体系:BaO、BaF₂ 等化合物薄膜前驱体
科研实验:表面物理、电子结构与界面工程研究
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.5% – 99.99% | 影响功函数与器件效率 |
| 形态 | 块状 / 颗粒 / 定制 | 适配不同蒸发源 |
| 单颗粒尺寸 | 可定制 | 影响蒸发通量稳定性 |
| 熔点 | ~727 °C | 适合中温蒸发 |
| 适用工艺 | 热蒸发(推荐) | 便于控制高活性金属 |
| 包装方式 | 真空或惰性气体密封 | 防止氧化与吸湿 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| 钡(Ba)蒸发材料 | 极低功函数、强还原性 | 阴极/电子注入层 |
| 钙(Ca) | 低功函数 | OLED 电子注入 |
| 镁(Mg) | 活性相对较低 | EIL 与合金层 |
| 铝(Al) | 工艺稳定 | 通用电极薄膜 |
Q1:钡蒸发材料适合哪种蒸发方式?
A:推荐热蒸发,便于控制其高反应活性与通量。
Q2:钡在薄膜中的主要作用是什么?
A:显著降低功函数,改善电子注入与界面能级匹配。
Q3:对真空与环境有什么要求?
A:要求极高,需高真空并严格控制残余水氧。
Q4:钡薄膜容易氧化吗?
A:非常容易,通常作为界面层并需快速覆盖或封装。
Q5:是否可用于反应蒸发?
A:可以,常用于制备 BaO、BaF₂ 等化合物薄膜。
Q6:颗粒尺寸会影响蒸发稳定性吗?
A:会,均匀尺寸有助于稳定通量与膜厚控制。
Q7:是否适合量产应用?
A:可用于小规模量产,但需完善的惰性与安全管理。
Q8:是否适合科研级应用?
A:非常适合,常用于电子结构与界面研究。
Q9:如何储存钡蒸发材料?
A:必须真空或惰性气氛密封,避免空气暴露。
Q10:是否支持定制规格?
A:支持,可按设备与工艺需求定制形态与尺寸。
所有钡蒸发材料在出厂前均经过严格质量检测,并建立完整批次追溯体系。产品采用真空或惰性气体密封、多重防护与出口级包装,最大限度降低高活性金属在运输与储存过程中的风险。
钡蒸发材料(Ba)凭借其极低功函数与卓越的电子注入能力,在真空电子器件与高端光电应用中具有关键价值。对于需要精细能级工程与高效率注入的薄膜沉积场景,钡蒸发材料是一种性能卓越、但需严格工艺与安全管理的专业选择。
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