碲化铁锗靶材(FeGeTe)

碲化铁锗靶材(FeGeTe)

产品简介(Introduction)

碲化铁锗靶材(FeGeTe)是一类由 Fe、Ge、Te 构成的多元过渡金属碲化物材料,因其独特的磁性、电输运性质以及层状晶体结构,在自旋电子学(spintronics)、二维材料研究(2D materials)、热电薄膜、光电器件和量子材料开发中备受关注。

FeGeTe 具备铁磁性、强自旋轨道耦合、可调电子结构等特性,通过溅射沉积所得薄膜在磁电耦合、拓扑态研究、热电效率调控以及新型光电功能开发方面具有重要价值。其材料结构稳定,薄膜质量高,适合科研实验与前沿技术领域的薄膜研究。


产品详情(Detailed Description)

FeGeTe 靶材通常采用 固相反应烧结(SSR)、热压烧结(HP)、真空反应烧结(VS)冷等静压(CIP)+烧结 等工艺制备,确保材料相结构均匀、杂质含量低、致密度高。

典型特点:

  • 纯度范围:99.9%(可提供更高纯度)

  • 相结构:稳定层状碲化物结构

  • 致密度:≥95% 理论密度

  • 尺寸规格:直径 25–300 mm,可定制矩形/片状靶

  • 厚度范围:3–6 mm

  • 支持工艺:DC、RF、脉冲 DC 磁控溅射

  • 可选背板:铜(Cu)、钛(Ti)、铟焊(In)

这些工艺与参数使 FeGeTe 靶材在溅射过程中具备以下优势:

  • 形成 高度致密与均匀的多元碲化物薄膜

  • 具备 优良的成分一致性与重复性

  • 粒子产生率低,适合 高洁净薄膜制备

  • 在高功率溅射下保持 稳定结构,不易开裂

  • 更适合二维材料与磁性薄膜的成膜研究


应用领域(Applications)

FeGeTe 是多铁性、磁性与拓扑材料领域的重要候选材料,其薄膜被广泛用于:

● 自旋电子学(Spintronics)

  • 磁阻效应(MR)研究

  • 自旋极化传输

  • 自旋-轨道矩(SOT)器件

  • 磁性存储与逻辑电路

● 二维材料与量子材料研究

  • 层状 FeGeTe 纳米薄膜

  • 拓扑磁性材料探索

  • 异质结构(heterostructure)构建

  • 能带调控与界面物理研究

● 热电材料(Thermoelectrics)

  • Seebeck 系数调控

  • 薄膜型热电模块

  • 纳米热电器件与能量收集研究

● 光电功能薄膜(Optoelectronics)

  • 光-电耦合结构

  • 可调光吸收系数薄膜

  • 红外探测与光敏元件

● 先进科研实验

  • FeTe、NiTe₂、FeGe 等相关材料组合膜

  • 原子层行为与薄膜生长机制研究

  • 多元金属间化合物相稳定性分析


技术参数(Technical Parameters)

参数 典型值 / 范围 重要性说明
纯度 99.9% 高纯度保证薄膜品质、减少缺陷
成分比 Fe–Ge–Te(可定制) 可满足不同科研配比需求
直径 25–300 mm 适配绝大多数溅射系统
厚度 3–6 mm 决定溅射速率与靶材寿命
工艺 SSR / HP / VS / CIP 不同工艺影响致密度与相纯度
背板结合 Cu / Ti / In 提升散热能力,提高稳定性
致密度 ≥95% TD 高致密度意味着更低颗粒率

相关材料对比(Comparison with Related Materials)

材料 优势 典型用途
FeGeTe 稳定磁性 + 层状结构 自旋电子、2D 材料、拓扑薄膜
FeNiGeTe 元素种类更多、性质可调更广 多元磁性薄膜、高级材料研究
FeGe 强磁性与螺旋磁结构 磁性器件、拓扑磁性研究
GeTe 热电性能优异 热电薄膜、相变存储研究

常见问题(FAQ)

问题 答案
FeGeTe 靶材适用于哪些溅射方式? 可用于 DC、RF、脉冲 DC 等磁控溅射设备。
能否定制成分比例? 可以,根据科研需求调整 Fe/Ge/Te 比例。
膜层主要特性是什么? 具有磁性、可调电子结构、层状薄膜行为等。
是否适用于超高真空设备? 完全适配 UHV/HV 级设备。
能否与其他碲化物共溅射? 支持,可用于构建 2D 异质结。
薄膜是否具有良好附着力? 在金属与半导体基底上均具有优良附着力。
是否可制作 PLD 靶? 可以提供相应规格。
FeGeTe 适合量产吗? 更常用于科研,但可提供工程化靶材。

包装与交付(Packaging)

所有 FeGeTe 靶材均采用:

  • 真空密封防氧化包装

  • 多层加厚防震结构

  • 防静电处理

  • 出口级木箱运输

每片靶材附带质量检测报告及唯一编码,确保可追溯性。


结论(Conclusion)

碲化铁锗靶材(FeGeTe)凭借其层状结构、磁性、可调电子特性和较强的热电性能,是新一代自旋电子学、拓扑材料研究、热电薄膜与光电器件开发的重要材料。通过精密溅射工艺,可制备高质量多元碲化物薄膜,为前沿科学研究和先进材料开发提供强有力支持。

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