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氧化硒靶材（SeO）是一类用于磁控溅射（Magnetron Sputtering）、电子束蒸发（E-beam Evaporation）及离子束沉积等工艺的功能性氧化物靶材。
由于 Se–O 化学体系具有独特的光学吸收特性、半导体特性及可调控的薄膜结构，SeO 常用于光电材料、红外光学元件、薄膜传感器、能量材料等多个前沿研究领域。
SeO 靶材能够在低温或中温下形成均匀致密的氧化物薄膜，适合科研实验室及材料研发企业使用。
苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯度、高致密度、结构稳定的 SeO 溅射靶材，支持小批量科研采购与定制生产。
典型规格：
纯度： 99.9%（3N）
尺寸： 圆形靶直径 25–200 mm，可定制
厚度： 3–6 mm（可按要求定制）
制造工艺： CIP 冷等静压成型 + 精密烧结
密度： ≥ 90% 理论密度
颜色： 浅色或类陶瓷质感
背板选项： Cu / Ti / Mo 背板 + Indium bonding（可选）
成膜稳定性好：适用于 RF/DC 溅射，蒸发速率均匀
分布均匀的微观结构：减少成膜缺陷，提高薄膜均匀性
较高化学稳定性：适用于光学与电子薄膜
可控的光学带隙：适合功能性薄膜材料研究
兼容多种基底：玻璃、Si、蓝宝石、ITO 等
SeO 靶材主要应用于多个光电与功能材料方向，包括：
红外光学镀膜（IR coatings）
光吸收材料、光电转换材料
传感器薄膜（气敏、温敏）
薄膜光伏、能量材料研究
氧化物半导体研究
光学滤光片、功能性涂层
科研院校的材料结构调控实验
SeO 的光学响应与成膜结构可调，使其在前沿光学材料和能量材料研究中具有较高价值。
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9% | 较高纯度可减少薄膜缺陷 |
| 尺寸 | 25–200 mm 可定制 | 适配各类真空镀膜系统 |
| 厚度 | 3–6 mm | 影响溅射功率与寿命 |
| 密度 | ≥ 90% TD | 提升薄膜一致性 |
| 工艺 | CIP + 烧结 | 结构稳定、应力低 |
| 背板结合 | Cu/Ti/Mo（选配） | 改善散热与机械稳定性 |
| 材料 | 特性 | 典型用途 |
|---|---|---|
| SeO | 光学响应可调、适合 IR 薄膜 | 光学镀膜、敏感薄膜 |
| SeO₂ | 更高稳定性 | 光学材料、器件封装 |
| TeO₂ | 高折射率 | 声光器件、滤光片 |
| ZnSe | 红外光学材料 | IR 透镜与窗口 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| SeO 适合 RF 或 DC 溅射？ | 两者皆可，但建议 RF 以获得更稳定的成膜速率。 |
| SeO 成膜过程中是否容易分解？ | 在适当的温度与氧分压条件下可稳定沉积。 |
| 是否可以与其他氧化物共溅射？ | 可以，常与 SeO₂、TeO₂、ZnO 等组合。 |
| 是否需要背板？ | 大尺寸靶材建议使用 Cu/Ti 背板以提升散热性能。 |
| 膜层光学特性是否可调？ | 可通过功率、压强、反应气氛调控。 |
| 适合长期储存吗？ | 常温干燥环境即可，避免潮湿。 |
| 可用于微纳光电器件研究吗？ | 是，广泛用于科研项目与原型器件制备。 |
所有 SeO 靶材均采用真空密封、防静电袋、泡沫缓冲、外层木箱保护，并提供唯一追踪编码，确保产品在运输过程中的稳定性与可追溯性。
氧化硒靶材（SeO）是一类重要的光电薄膜材料，可用于红外光学、功能性涂层、传感器与半导体薄膜等研究方向。苏州科跃材料可提供高品质、高致密度且可定制的 SeO 溅射靶材，满足科研及试制需求。
如需询价或技术资料，请联系：
📧 sales@keyuematerials.com
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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