您可以向我们发送询盘，以获取更多信息和最新价格。
氧化镍锰（NiMnO）是一类重要的过渡金属复合氧化物靶材，融合了镍（Ni）与锰（Mn）在氧化物体系中的电学、磁学和化学特性。Ni–Mn–O 体系通常具有电阻可调性、催化活性、磁响应能力以及优良的膜层稳定性，因此被广泛应用于薄膜电阻器、催化材料、传感器、磁性薄膜、电化学功能膜及先进氧化物电子材料研究。
由于 NiMnO 在薄膜沉积中易形成均匀致密的膜层，并具备良好的附着性与结构稳定性，因此特别适合用于科研实验室与高端功能膜开发项目。
苏州科跃材料科技有限公司通过严格的粉体均化、CIP 等静压成型与精确烧结工艺，确保 NiMnO 靶材具有高致密度、高纯度和优异的溅射稳定性。
典型规格参数：
纯度： 99.9%（3N）
尺寸： Φ25–300 mm，可定制矩形靶
厚度： 3–6 mm（可按客户需求定制）
密度： ≥ 90–95% 理论密度（TD）
制造工艺： CIP 冷等静压 + 高温固相烧结
可选工艺： HIP 热等静压以获得更高致密度
外观： 深灰/黑灰陶瓷质感
背板（可选）： Cu / Ti / Mo + Indium Bonding（提升散热与抗裂性）
成分分布均匀 → 保证成膜比例稳定
高致密度结构 → 有利于长时间稳定溅射
优良磁电性能 → 适合集成磁性或电阻功能膜
表面平整度高 → 薄膜均匀性佳，减少针孔缺陷
适配 DC/RF 溅射 → 工艺兼容性强
NiMnO 溅射靶材在电子、磁性、光电及催化等领域具有广泛用途，包括：
磁性薄膜（Spintronic Materials）
电阻式传感器薄膜（气敏、温敏）
催化薄膜（如 OER、ORR 电催化研究）
薄膜电阻器、调阻材料
光电多层结构与功能材料
电化学反应薄膜（如储能相关研究）
多层异质结构的功能层
由于 Mn–O 与 Ni–O 的协同效应，NiMnO 薄膜在电学、磁学与电催化行为中表现出丰富的可调控性，是材料科学研究的重要体系之一。
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9%（3N） | 减少杂质缺陷，提升薄膜收率 |
| 尺寸 | Φ25–300 mm | 兼容主流溅射系统 |
| 厚度 | 3–6 mm | 影响溅射功率与寿命 |
| 密度 | ≥ 90–95% TD | 薄膜致密性与均匀性的关键 |
| 制备工艺 | CIP 烧结 / HIP | 决定抗裂性与靶材寿命 |
| 背板选项 | Cu/Ti/Mo + 铟焊 | 提升散热与防翘曲能力 |
| 适用设备 | DC / RF | 适配实验室与产业级设备 |
| 材料 | 特性 | 应用 |
|---|---|---|
| NiMnO | 电学可调、磁性响应 | 传感器、磁性薄膜、电阻薄膜 |
| NiO | p 型半导体 | TCO、光电材料 |
| MnO₂ / Mn₃O₄ | 催化活性强 | 电催化、储能薄膜 |
| NiCoO | 高导电性，电化学活性强 | 催化、电极薄膜 |
| 问题 | 回答 |
|---|---|
| NiMnO 靶材适合 RF 还是 DC 溅射？ | 两者都可使用，RF 溅射成膜更均匀稳定。 |
| 是否具备磁性？ | 取决于成膜条件，Ni–Mn–O 体系在部分相结构下具有磁性。 |
| 可否用于传感器？ | 是，常用于气敏、电阻式传感薄膜。 |
| 是否需要背板？ | 大尺寸靶材建议使用 Cu/Ti 背板以增强散热与降低应力。 |
| 膜层电阻率是否可调？ | 可通过氧分压、功率、温度进行调控。 |
| 可否与其他材料共溅射？ | 可以，例如与 NiO、MnO₂、ZnO 等组合开发复合膜。 |
| 如何储存？ | 置于干燥、常温条件，避免重压与潮湿。 |
所有 NiMnO 靶材均采用：
真空密封防潮包装
防静电材料包裹
防震缓冲保护
外层出口级纸箱或木箱
并附唯一的产品追踪编号，确保运输全过程可追溯。
氧化镍锰（NiMnO）靶材是一种兼具磁性、电学和催化特性的多功能复合氧化物材料，适用于传感器、电阻薄膜、催化膜与先进电子材料研究。苏州科跃材料提供高纯度、高致密度并可定制尺寸的 NiMnO 溅射靶材，满足科研与试制应用的需求。
如需获取报价或更多技术资料，请联系：
📧 sales@keyuematerials.com
您可以向我们发送询盘，以获取更多信息和最新价格。
苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
Copyright © 苏州科跃材料有限公司 苏ICP备2025199279号-1